[发明专利]阵列基板、显示装置及其显示方法

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：

衬底基板；

多个像素单元，位于所述衬底基板上，所述多个像素单元的至少之一包括反射层；以及

介电弹性体，位于所述反射层靠近所述衬底基板的一侧，且被配置为在电压的作用下改变靠近所述反射层一侧表面的不平坦度，从而改变所述反射层的不平坦度，

其中，所述反射层共形地形成在所述介电弹性体上，

所述阵列基板还包括第一绝缘层，位于反射层和介电弹性体之间且被配置为使反射层和介电弹性体相互绝缘，介电弹性体包括层叠设置的导电层和介电弹性材料层，导电层包括彼此绝缘的第一导电层和第二导电层，第一导电层位于介电弹性材料层靠近衬底基板的一侧，第二导电层位于介电弹性材料层远离衬底基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述多个像素单元的至少之一还包括位于所述反射层之外的透射区。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，还包括控制线，与所述介电弹性体电连接，被配置为向所述介电弹性体施加电压。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其中，所述介电弹性体包括多个矩阵排列的介电弹性体块，每个介电弹性体块位于至少一个像素单元所在的区域内，所述控制线包括多条控制线，每个所述介电弹性体块连接至少一条所述控制线。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述介电弹性体在对应于所述透射区的区域开设有透光区。

6.根据权利要求3所述的阵列基板，其中，所述导电层与所述控制线电连接，被配置为向所述介电弹性材料层施加电压，

所述介电弹性材料层被配置为根据所述导电层施加的电压而改变远离所述衬底基板的一侧的不平坦度。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其中，所述第一导电层与所述第二导电层之一与所述控制线电连接，另一个被配置为施加公共电压。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述反射层为彩色反射层。

9.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述介电弹性体与所述反射层彼此绝缘。

10.一种显示装置，包括根据权利要求1-9中任一项所述的阵列基板。

11.根据权利要求10所述的显示装置，还包括控制器以及感光元件，所述控制器分别与所述感光元件和所述介电弹性体电连接，

所述感光元件配置为检测环境光照强度并向所述控制器提供光照强度信号，所述控制器根据所述光照强度信号向所述介电弹性体施加相应的电压。

12.一种根据权利要求11所述的显示装置的显示方法，包括：

检测环境光照强度；

根据所述光照强度，向所述介电弹性体施加相应的电压，改变所述介电弹性体靠近所述反射层一侧的不平坦度，从而改变所述反射层的反射率。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述多个像素单元的至少之一包括透射区，所述显示装置还包括背光单元，

根据所述光照强度，向所述介电弹性体施加相应的电压包括：

当所述光照强度小于第一预设光照强度时，开启所述背光单元，并停止向所述介电弹性体施加电压；

当所述光照强度大于或等于第一预设光照强度，并且小于第二预设光照强度时，向所述介电弹性体施加第一电压值范围的电压以使所述介电弹性体的表面不平坦度大于预定不平坦度；

当所述光照强度大于或等于第二预设光照强度时，向所述介电弹性体施加第二电压值范围的电压，以使所述介电弹性体的表面不平坦度小于所述预定不平坦度，

其中，所述第二预设光照强度大于所述第一预设光照强度，所述第一电压值范围中的电压值大于所述第二电压值范围中的电压值。