[发明专利]吸附装置及其制作方法及转移系统在审
| 申请号： | 201910604669.4 | 申请日： | 2019-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN110416123A | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 陈柏良;林永富;田仲広久;岛田康宪 | 申请（专利权）人： | 深超光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/683;H01L27/15;H01L33/48 |
| 代理公司： | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人： | 徐丽;谢蓓 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种吸附装置，包括：基板；及多个磁力单元，所述多个磁力单元间隔设置于所述基板的同一表面上，每一所述磁力单元包括磁体及部分包覆所述磁体的包覆层，所述包覆层为强磁性材料；每一所述磁体远离所述基板的一侧相对一所述包覆层裸露。本发明提供的吸附装置，仅在多个特定位置产生磁力，可实现单次转移多个目标物体。本发明还提供一种吸附装置制作方法及转移系统。 | ||
| 搜索关键词： | 吸附装置 磁力单元 包覆层 基板 转移系统 强磁性材料 多个目标 间隔设置 同一表面 磁力 包覆 制作 裸露 | ||
【主权项】：
1.一种吸附装置，其特征在于，包括：基板；及多个磁力单元，所述多个磁力单元间隔设置于所述基板的同一表面上，每一所述磁力单元包括磁体及部分包覆所述磁体的包覆层，所述包覆层为强磁性材料；每一所述磁体远离所述基板的一侧相对一所述包覆层裸露。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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