[发明专利]成膜设备和使用该成膜设备的成膜方法有效
| 申请号： | 201910599227.5 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN110735122B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 出村和哉;堀江贵将;小林宽之 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/35;C23C14/54;G02B1/11 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 白皎 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种成膜设备，所述成膜设备在腔室中包括：基材支撑机构，所述基材支撑机构构造成使由所述基材支撑机构支撑的基材围绕第一轴线旋转；以及第一阴极部分，成圆柱形状的包含成膜材料的靶安装在所述第一阴极部分上，并且所述第一阴极部分构造成使所述靶围绕第二轴线旋转。所述第二轴线设置在相对于所述第一轴线偏斜的位置处。本公开还涉及一种成膜方法和制造镜头的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成膜设备，所述成膜设备包括：/n基材支撑机构，所述基材支撑机构构造成使由所述基材支撑机构支撑的基材围绕第一旋转轴线旋转；/n第一阴极部分，所述第一阴极部分构造成使成第一圆柱形状的靶围绕第二旋转轴线旋转；以及/n第二阴极部分，所述第二阴极部分构造成使成第二圆柱形状的靶围绕第三旋转轴线旋转，/n其中/n所述第二旋转轴线和所述第三旋转轴线设置在相对于所述第一旋转轴线偏斜的位置处，/n满足Ma<Mb的关系，其中Ma是在所述第一旋转轴线延伸的方向上所述第二旋转轴线与所述基材支撑机构的基材支撑表面之间的距离，并且Mb是在所述第一旋转轴线延伸的方向上所述第三旋转轴线与所述基材支撑机构的所述基材支撑表面之间的距离，并且/n满足La>Lb的关系，其中La是当在所述第一旋转轴线延伸的方向上观察时所述第一旋转轴线与所述第二旋转轴线之间的距离，并且Lb是当在所述第一旋转轴线延伸的方向上观察时所述第一旋转轴线与所述第三旋转轴线之间的距离。/n
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