[发明专利]成膜设备和使用该成膜设备的成膜方法

说明书

本公开涉及一种成膜设备，所述成膜设备在腔室中包括：基材支撑机构，所述基材支撑机构构造成使由所述基材支撑机构支撑的基材围绕第一轴线旋转；以及第一阴极部分，成圆柱形状的包含成膜材料的靶安装在所述第一阴极部分上，并且所述第一阴极部分构造成使所述靶围绕第二轴线旋转。所述第二轴线设置在相对于所述第一轴线偏斜的位置处。本公开还涉及一种成膜方法和制造镜头的方法。

技术领域

本发明涉及一种使用溅射方法的成膜设备，并且更具体地涉及一种适用于在具有带有大半开角的凹面或凸面的镜头上成膜的成膜设备。

背景技术

近年来，相机的镜头已具有更广的角度，并且具有带有大半开角(有效直径内由镜头的光轴以及镜头的凹面或凸面的法线形成的角度)的凹面或凸面的镜头被广泛用作作为相机的光学系统的部件的镜头。在这种广角镜头中，为了实现透光率的改进和重影闪光的减少，均匀地在镜头表面内形成抗反射膜的膜厚度。

日本专利特开No.2013-256707描述了一种成膜设备。成膜设备包括镜头保持器和平面靶。镜头保持器能够围绕其旋转轴旋转，并且能够保持多个镜头。平面靶以相对于镜头保持器的旋转轴倾斜的状态被支撑在腔室中。镜头保持器的旋转轴连接到具有枢转轴和伸缩轴的致动器单元，并且能够调节距离靶的距离以及相对于靶的相对角度。具有凹面的多个镜头被设置在镜头保持器中，用于调节附着到凹面的膜的膜厚度的盖构件覆盖镜头的凹面，并且在调节镜头保持器与靶之间的相对距离和相对角度时执行成膜。因此，使每个凹面中的膜厚度均匀。

发明内容

然而，对于日本专利特开No.2013-256707的成膜设备，不方便之处在于在其上形成具有均匀膜厚度的膜的镜头表面限于凹面。

根据本发明的一个方面，提供了一种成膜设备，所述成膜设备能够在具有大半开角的镜头表面内形成膜厚度变化较小的膜，而不管所述镜头表面是凹面还是凸面。

根据本发明的另一个方面，一种成膜设备在腔室中包括：基材支撑机构，所述基材支撑机构构造成使由所述基材支撑机构支撑的基材围绕第一旋转轴线旋转；以及第一阴极部分，所述第一阴极部分构造成使成第一圆柱形状的靶围绕第二旋转轴线旋转；以及第二阴极部分，所述第二阴极部分构造成使成第二圆柱形状的靶围绕第三旋转轴线旋转。第二旋转轴线和第三旋转轴线设置在相对于第一旋转轴线偏斜的位置处，满足MaMb的关系，其中Ma是在第一旋转轴线延伸的方向上第二旋转轴线与基材支撑机构的基材支撑表面之间的距离，并且Mb是在第一旋转轴线延伸的方向上第三旋转轴线与基材支撑机构的基材支撑表面之间的距离，并且满足LaLb的关系，其中La是当在第一旋转轴线延伸的方向上观察时第一旋转轴线与第二旋转轴线之间的距离，并且Lb是当在第一旋转轴线延伸的方向上观察时第一旋转轴线与第三旋转轴线之间的距离。

本发明的另外特征将从以下参考附图对示例性实施例的描述而变得显而易见。

附图说明

图1A是示出了根据第一实施例的成膜设备的示意性构造的示意性剖视图。

图1B是示出了当在沿着旋转轴线P的方向上观察时阴极部分和夹具的基材保持侧的视图。

图2是当在沿着旋转轴线P的方向上观察时由夹具支撑的基材保持器的视图。

图3是整个阴极部分的沿着旋转轴线O截取的示意性剖视图。

图4A是根据第二实施例的成膜设备的示意性结构的沿竖向方向截取的剖视图。

图4B是示出了当在沿着旋转轴线P的方向上观察时阴极部分和夹具的基材保持侧的视图。

图5是示出了当在沿着旋转轴线P的方向上观察根据第三实施例的成膜设备时阴极部分和夹具的基材保持侧的视图。

图6是根据第四实施例的整个阴极部分的沿着旋转轴线截取的示意性剖视图。