[发明专利]电阻元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910584376.4 申请日: 2019-07-01
公开(公告)号: CN110797326A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 齐藤俊;山路将晴;佐佐木修;澄田仁志 申请(专利权)人: 富士电机株式会社
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64;H01L49/02
代理公司: 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘新宇
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种电阻元件及其制造方法。该电阻元件能够防止电极与电阻层之间的短路。电阻元件包括:半导体基板(1);第1绝缘膜(2),其设于半导体基板上;电阻层(3a),其选择性地设于第1绝缘膜上;第1辅助膜(3b),其自电阻层分开;第2辅助膜(3c),其在与第1辅助膜不同的方向上自电阻层分开;第2绝缘膜(4),其以覆盖电阻层和所述第1辅助膜及所述第2辅助膜的方式设于第1绝缘膜上;第1电极(5a),其与电阻层连接,配置于第2绝缘膜的位于第1辅助膜的上方的部分上;以及第2电极(5b),其与第1电极分开地与电阻层连接,配置于第2绝缘膜的位于第2辅助膜的上方的部分上。
搜索关键词: 电阻层 辅助膜 绝缘膜 电极 电阻元件 半导体基板 短路 配置 覆盖 制造
【主权项】:
1.一种电阻元件,其特征在于,/n该电阻元件具备:/n半导体基板;/n第1绝缘膜,其设于所述半导体基板上;/n电阻层,其选择性地设于所述第1绝缘膜上;/n第1辅助膜,其自所述电阻层分开;/n第2辅助膜,其在与所述第1辅助膜不同的方向上自所述电阻层分开;/n第2绝缘膜,其以覆盖所述电阻层和所述第1辅助膜及所述第2辅助膜的方式设于所述第1绝缘膜上;/n第1电极,其与所述电阻层连接,配置于所述第2绝缘膜的位于所述第1辅助膜的上方的部分上;以及/n第2电极,其与所述第1电极分开地与所述电阻层连接,配置于所述第2绝缘膜的位于所述第2辅助膜的上方的部分上。/n
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