[发明专利]一种石杉碱甲缓控释分子印迹聚合物及其制备方法在审
| 申请号： | 201910544112.6 | 申请日： | 2019-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN110204655A | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | 薛伟明;杜幸;贾朝;李可欣;高娟娟;黄赛朋;温惠云 | 申请（专利权）人： | 西北大学 |
| 主分类号： | C08F222/14 | 分类号： | C08F222/14;C08F220/06;C08F220/56;C08F226/06;C08F220/14;C08J9/28;A61K47/32;A61K47/58 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 安彦彦 |
| 地址： | 710069 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种石杉碱甲缓控释分子印迹聚合物及其制备方法，所述石杉碱甲缓控释分子印迹聚合物的制备原料包括模板分子、功能单体、交联剂、引发剂和致孔剂；所述模板分子为石杉碱甲；所述功能单体为甲基丙烯酸、丙烯酰胺、4‑乙烯基吡啶、甲基丙烯酸甲酯或N‑异丙基丙烯酰胺；所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯或三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯；所述引发剂为偶氮二异丁腈；所述致孔剂为甲醇、乙腈或甲醇和乙腈的混合物。本发明制备的印迹聚合物吸附量大、缓释效果明显，所用的制备方法操作简单，反应条件温和，所用原料廉价易得。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 石杉碱甲 分子印迹聚合物 控释 功能单体 模板分子 交联剂 引发剂 致孔剂 甲醇 乙腈 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯 乙二醇二甲基丙烯酸酯 甲基丙烯酸甲酯 异丙基丙烯酰胺 偶氮二异丁腈 甲基丙烯酸 乙烯基吡啶 印迹聚合物 丙烯酰胺 反应条件 混合物 吸附量 缓释 | ||
【主权项】：
1.一种石杉碱甲缓控释分子印迹聚合物，其特征在于，所述石杉碱甲缓控释分子印迹聚合物的制备原料包括模板分子、功能单体、交联剂、引发剂和致孔剂；所述模板分子、功能单体和交联剂的摩尔比为1：(2～10)：(5～20)；且模板分子与引发剂之间比例为0.2mmol：(10～50)mg，模板分子与致孔剂之间比例为0.2mmol：(20～50)mL；所述模板分子为石杉碱甲；所述功能单体为甲基丙烯酸、丙烯酰胺、4‑乙烯基吡啶、甲基丙烯酸甲酯或N‑异丙基丙烯酰胺；所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯或三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯；所述引发剂为偶氮二异丁腈；所述致孔剂为甲醇、乙腈或甲醇和乙腈的混合物。
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