[发明专利]基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 201910521571.2 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN110620032A | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 茂木泰弘;小林威宣;三浦孝夫 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/683 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李鹏宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法，抑制基板台大型化且在生产能力方面有利。具备：基板台，该基板台在保持面上保持基板；吸引部，该吸引部吸引基板的上表面，对基板的上表面喷出气体，从而以使基板从基板台浮起的状态支撑基板；以及驱动机构，该驱动机构使由吸引部支撑的基板围绕与保持面正交的轴旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 基板台 驱动机构 上表面 吸引 基板旋转装置 光刻装置 基板旋转 物品制造 支撑基板 对基板 抑制基 正交的 轴旋转 板台 浮起 喷出 生产能力 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种基板旋转装置，其特征在于，具备：/n基板台，该基板台在保持面上保持基板；/n吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及/n驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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