[发明专利]基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法

权利要求书

1.一种基板旋转装置，其特征在于，具备：

基板台，该基板台在保持面上保持基板；

吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及

驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转。

2.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述吸引部以与上述基板的上表面分离的状态进行支撑。

3.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述吸引部包括形成有用于吸引上述基板的微小孔的多孔质垫。

4.如权利要求3所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述多孔质垫为与上述基板的大小相同的程度或者比上述基板的大小大。

5.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述基板台具备升降部，该升降部能够沿着与上述保持面正交的方向升降，用以使上述基板移动至可由上述吸引部吸引上述基板的位置。

6.如权利要求5所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述升降部在与上述基板接触的面具备对上述基板进行吸附保持的第1吸附部。

7.如权利要求6所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述第1吸附部在由上述吸引部对上述基板的吸引开始之后停止吸附。

8.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述驱动机构设置于上述基板台。

9.如权利要求8所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述基板台具备对上述基板的下表面的中央部进行吸附保持的保持构件，

上述驱动机构通过使上述保持构件旋转，使由上述保持构件吸附保持的上述基板旋转。

10.如权利要求9所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述保持构件在与上述基板的下表面接触的面具备多个第2吸附部。

11.如权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述驱动机构设置于上述吸引部。

12.如权利要求11所述的基板旋转装置，其特征在于，

上述吸引部具备抵接构件，该抵接构件通过与上述基板的端部抵接而支撑上述基板，

上述驱动机构通过使上述吸引部旋转，使由上述抵接构件支撑的上述基板旋转。

13.一种基板旋转方法，其特征在于，包括：

在保持面上保持基板的工序；

通过吸引上述基板的上表面而以使上述基板从基板台浮起的状态支撑上述基板的支撑工序；以及

使在上述支撑工序中被支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转的工序。

14.一种光刻装置，该光刻装置是在基板上形成图案的光刻装置，其特征在于，

上述光刻装置包括权利要求1所述的基板旋转装置。

15.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求14所述的光刻装置在基板上形成图案的工序；以及

对在上述工序中形成了图案的上述基板进行加工的工序，

由加工后的上述基板制造物品。