[发明专利]基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法

说明书

本发明提供基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法，抑制基板台大型化且在生产能力方面有利。具备：基板台，该基板台在保持面上保持基板；吸引部，该吸引部吸引基板的上表面，对基板的上表面喷出气体，从而以使基板从基板台浮起的状态支撑基板；以及驱动机构，该驱动机构使由吸引部支撑的基板围绕与保持面正交的轴旋转。

技术领域

本发明涉及基板旋转装置、基板旋转方法、光刻装置以及物品制造方法。

背景技术

在作为制造半导体装置或液晶显示装置等物品的工序之一的光刻工序中，使用经由投影光学系统在基板上的曝光区域转印掩膜的图案的曝光装置。有时针对1个基板转印多种图案。相对于此，在日本特开2013-219068号公报中公开了通过设置在基板台上使基板旋转的机构而在曝光装置内使基板旋转的系统。

但是，在基板台上使基板旋转的情况下，需要用于在基板台上使基板旋转的空间，故而会导致基板台大型化。另外，若基板台大型化，则使得基板台的驱动速度降低，从而会导致生产能力降低。

发明内容

于是，本发明的目的在于提供例如抑制基板台大型化且在生产能力方面有利的基板旋转装置。

本发明的基板旋转装置，其特征在于，具备：基板台，该基板台在保持面上保持基板；吸引部，该吸引部吸引上述基板的上表面，对上述基板的上表面喷出气体，从而以使上述基板从上述基板台浮起的状态支撑上述基板；以及驱动机构，该驱动机构使由上述吸引部支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转。

本发明的基板旋转方法，其特征在于，包括：在保持面上保持基板的工序；通过吸引上述基板的上表面而以使上述基板从基板台浮起的状态支撑上述基板的支撑工序；以及使在上述支撑工序中被支撑的上述基板围绕与上述保持面正交的轴旋转的工序。

本发明的光刻装置，该光刻装置是在基板上形成图案的光刻装置，其特征在于，上述光刻装置包括上述的基板旋转装置。

本发明的物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述的光刻装置在基板上形成图案的工序；以及对在上述工序形成了图案的上述基板进行加工的工序，由加工后的上述基板制造物品。

参考附图，根据示例性实施方式的以下描述，本发明的其他特征将变得显而易见。

附图说明

图1(A)、图1(B)是示出第1实施方式所涉及的基板旋转装置的构成的概略图。

图2是说明第1实施方式所涉及的吸引部的图。

图3是第1实施方式所涉及的基板的旋转处理可适用的图案布局的一例。

图4是示出第1实施方式所涉及的基板的旋转处理的流程的流程图。

图5(A)、图5(B)、图5(C)是示出第1实施方式所涉及的基板的旋转处理的图。

图6(A)、图6(B)是示出第2实施方式所涉及的吸引部的构成的概略图。

图7(A)、图7(B)、图7(C)是示出第2实施方式所涉及的基板的旋转处理的图。

图8是示出应用了第1及第2实施方式所涉及的基板旋转装置的曝光装置的构成的概略图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的优选实施方式进行说明。另外，在各图中，对相同的构件或要素标注相同的附图标记而省略重复说明。

(第1实施方式)