[发明专利]一种用于大面积PECVD基片传输结构

摘要

本发明公开了一种用于大面积PECVD基片传输结构,主要包括：滚轮通过螺钉固定在传输轴上，传输轴两端通过轴承座固定在真空室底板两侧的固定导轨上，传输轴一端通过键连接两个同步带轮，各传输轴上同步带轮通过同步带相连接，整个传输结构设置于真空室内侧，传输动力由一个磁流体装置引入；在下电极上各滚轮位置上，设置有梯形槽孔，各滚轮含于各梯形槽孔中，传输基片时滚轮露出下电极上面，反应时下电极上升托起基片，滚轮低于下电极上面，此基片传输结构是整轴多点支撑式结构，结构简单，便于调整，无需托针升降装置，减少了磁流体装置的数量，节约成本，避免了现有PECVD基片传输结构中传输轴易产生变形，磁流体装置损坏，基片易变形、卡滞的现象。

主权项

1.一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于，包括：真空腔室（1），固定导轨（2），轴承座（3），传输轴（4），下电极（5），滚轮（6），喷淋电极（7），基片（8），同步带轮（9），短键（10），磁流体装置（11），外同步带轮（12），电机同步带轮（13），长键（14），减速电机（15），支撑板（16），电极升降装置（17）；所述基片传输结构设置于真空腔室（1）内侧，在所述真空腔室（1）底板上两侧固定连接有所述固定导轨（2），在所述固定导轨（2）上面设置有多组轴承座（3），所述传动轴（4）活动连接在所述两侧的轴承座（3）内，所述传动轴（4）上设置有多个滚轮（6），所述传动轴（4）一端通过短键（10）连接两个同步带轮（9），所述各传动轴（4）上相邻两同步带轮（9）通过同步带相连接；所述真空腔室（1）外侧，由一个磁流体装置（11）将传输动力引入，所述磁流体装置（11）馈入真空侧轴上，设置有同步带轮（9），与所述相邻传输轴（4）上的同步带轮（9）之间设置有同步带，将传输动力馈入；所述磁流体装置（11）外侧同步带轮（12）通过同步带与所述减速电机（15）轴上所述电机同步带轮（13）相连；所述支撑板（16）与所述真空腔室（1）固定连接，所述减速电机（15）与所述支撑板（16）固定连接，所述减速电机（15）轴端与所述电机同步带轮（13）间设置有所述长键（14）；所述下电极（5）设置有与所述滚轮（6）数量及位置相同的梯形槽孔，当所述下电极（5）上下升降时，所述滚轮（6）在所述下电极（5）梯形槽孔内可相对位移；传输基片时，所述滚轮（6）露出所述下电极（5）上面，沉积反应时，所述下电极（5）上升托起所述基片（8），使所述滚轮（6）低于所述下电极（5）上面。