[发明专利]一种用于大面积PECVD基片传输结构

权利要求书

1.一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于，包括：真空腔室（1），固定导轨（2），轴承座（3），传输轴（4），下电极（5），滚轮（6），喷淋电极（7），基片（8），同步带轮（9），短键（10），磁流体装置（11），外同步带轮（12），电机同步带轮（13），长键（14），减速电机（15），支撑板（16），电极升降装置（17）；

所述基片传输结构设置于真空腔室（1）内侧，在所述真空腔室（1）底板上两侧固定连接有所述固定导轨（2），在所述固定导轨（2）上面设置有多组轴承座（3），所述传输轴（4）活动连接在所述两侧的轴承座（3）内，所述传输轴（4）上设置有多个滚轮（6），所述传输轴（4）一端通过短键（10）连接两个同步带轮（9），每根传输轴（4）上相邻同步带轮（9）通过同步带相连接；

所述真空腔室（1）外侧，由一个磁流体装置（11）将传输动力引入，所述磁流体装置（11）馈入真空侧轴上，设置有同步带轮（9），与相邻所述传输轴（4）上的同步带轮（9）之间设置有同步带，将传输动力馈入；所述磁流体装置（11）外侧同步带轮（12）通过同步带与所述减速电机（15）轴上所述电机同步带轮（13）相连；

所述支撑板（16）与所述真空腔室（1）固定连接，所述减速电机（15）与所述支撑板（16）固定连接，所述减速电机（15）轴端与所述电机同步带轮（13）间设置有所述长键（14）；

所述下电极（5）设置有与所述滚轮（6）数量及位置相同的梯形槽孔，当所述下电极（5）上下升降时，所述滚轮（6）在所述下电极（5）梯形槽孔内可相对位移；传输基片时，所述滚轮（6）露出所述下电极（5）上面，沉积反应时，所述下电极（5）上升托起所述基片（8），使所述滚轮（6）低于所述下电极（5）上面。

2.根据权利要求1所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述固定导轨（2）共两根，分别固定连接在所述真空腔室（1）下腔壁内且与进出片方向对称且平行的两侧；所述传输轴（4）上设置有一定数量的滚轮（6），并通过螺钉与所述传输轴（4）固定连接，所述传输轴（4）与所述基片（8）传输方向垂直。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述传输轴（4）较长端设置有两个同步带轮（9），所述同步带轮（9）通过短键（10）与传输轴（4）相连，并设置于所述真空腔室（1）的同侧。

4.根据权利要求1所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述传输轴（4）上距所述真空腔室（1）中心较近侧的相邻两个同步带轮（9）之间，和距所述真空腔室（1）中心较远侧的相邻两个同步带轮（9）之间，分别设置有同步带将相邻的同步带轮（9）相互连接。

5.根据权利要求1所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述磁流体装置（11）法兰通过密封圈与所述真空腔室（1）外侧固定连接，所述磁流体装置（11）真空侧轴上设置有短键（10），与所述同步带轮（9）固定连接，并与所述传输轴（4）上距真空腔室（1）中心较远侧的相邻同步带轮（9）之间设置有同步带连接；所述磁流体装置（11）大气侧轴上设置有短键（10），与所述外同步带轮（12）固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述支撑板（16）与所述真空腔室（1）下腔壁的外侧固定连接，所述减速电机（15）水平固定连接在所述支撑板（16）垂直板上，所述减速电机（15）轴上设置有所述长键（14）与所述电机同步带轮（13）固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于大面积PECVD基片传输结构，其特征在于所述减速电机（15）轴与所述传输轴（4）始终平行，所述电机同步带轮（13）与所述外同步带轮（12）之间设置有同步带连接，当所述减速电机（15）旋转时，将带动整个传输轴（4）及滚轮（6）旋转。