[发明专利]改善浆料流动性的抛光垫及其制备方法在审
| 申请号： | 201910407219.6 | 申请日： | 2019-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN110625511A | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 尹晟勋;徐章源;许惠暎;尹钟旭;安宰仁;文寿泳 | 申请（专利权）人： | SKC株式会社 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B37/20;B24B37/22;B24B37/26;B24B55/06;B24D18/00 |
| 代理公司： | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 韩国京畿道水原*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请提供一种抛光垫，其包括多个第一凹槽，该第一凹槽为具有相同中心的几何形状；和多个第二凹槽，该第二凹槽从该中心向外周边径向延伸，其中该第二凹槽的深度等于或者深于该第一凹槽的深度。抛光垫可以快速排出在抛光过程中产生的任何碎屑，以减少例如晶片表面上的划痕等缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光垫 晶片表面 径向延伸 抛光过程 外周边 划痕 排出 碎屑 申请 | ||
【主权项】：
1.一种抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，/n其中，所述抛光层在其抛光表面上包括：/n多个第一凹槽，所述第一凹槽为具有相同中心的几何形状；和/n多个第二凹槽，所述第二凹槽从所述中心向外周边径向延伸；并且/n所述第二凹槽的深度等于或深于所述第一凹槽的深度。/n
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