[发明专利]一种用于改善PERC电池的制作方法在审
| 申请号： | 201910297831.2 | 申请日： | 2019-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN110165016A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 童锐;柯希满;张忠卫 | 申请（专利权）人： | 南通苏民新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L31/0216 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;俞翠华 |
| 地址： | 226300 江苏省南通*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于改善PERC电池的制作方法，包括(1)对硅片顺次进行制绒和扩散处理，使得硅片的正面形成有磷扩散层以及覆盖在所述磷扩散层上的磷硅玻璃层，所述硅片的边缘存在PN结；(2)将所述硅片正面朝上送入刻蚀机台内，由刻蚀机台内的混合溶液去除所述硅片边缘的PN结，并对硅片的背面进行抛光处理，然后将所述硅片送出刻蚀机台；(3)对所述硅片进行翻转处理后送入传送皮带，使得硅片的正面与传送皮带接触；(4)利用传送皮带将硅片送入盛放件内，随着所述盛放件顺次经过酸槽、第三水槽和烘干槽，去除硅片正面的磷硅玻璃层，并对其进行清洗和烘干。本发明能够大大改善PERC太阳能电池因污染而引起的EL不良问题。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 传送皮带 刻蚀机台 送入 磷硅玻璃层 硅片正面 磷扩散层 盛放件 去除 电池 水槽 太阳能电池 不良问题 硅片边缘 混合溶液 扩散处理 抛光处理 烘干槽 翻转 朝上 烘干 送出 酸槽 制作 背面 清洗 覆盖 污染 | ||
【主权项】：
1.一种用于改善PERC电池的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)对硅片顺次进行制绒和扩散处理，使得硅片的正面形成有磷扩散层以及覆盖在所述磷扩散层上的磷硅玻璃层，所述硅片的边缘存在PN结；(2)将所述硅片正面朝上送入刻蚀机台内，由刻蚀机台内的混合溶液去除所述硅片边缘的PN结，并对硅片的背面进行抛光处理，然后将所述硅片送出刻蚀机台；(3)对所述硅片进行翻转处理后送入传送皮带，使得硅片的正面与传送皮带接触；(4)利用传送皮带将硅片送入盛放件内，随着所述盛放件顺次经过酸槽、第三水槽和烘干槽，去除硅片正面的磷硅玻璃层，并对其进行清洗和烘干。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
