[发明专利]阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 201910277862.1 | 申请日： | 2019-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN109828419B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 黄北洲 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳精智联合知识产权代理有限公司 44393 | 代理人： | 邓铁华 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开一种阵列基板及其制作方法，包括透明基底；第一金属层，设置在所述透明基底上，所述第一金属层包括扫描线和栅极；绝缘层，设置在所述第一金属层上；半导体层，设置在所述绝缘层上；以及第二金属层，设置在所述半导体层上，所述第二金属层包括数据线、源极和漏极；其中，所述扫描线和所述数据线交叉设置形成重叠区域，所述半导体层延伸至所述重叠区域内。本发明可以有效地降低扫描线驱动负载，提高像素充电率。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：透明基底；第一金属层，设置在所述透明基底上，所述第一金属层包括扫描线和栅极；绝缘层，设置在所述第一金属层上；半导体层，设置在所述绝缘层上；以及第二金属层，设置在所述半导体层上，所述第二金属层包括数据线、源极和漏极；其中，所述扫描线和所述数据线交叉设置形成重叠区域，所述半导体层延伸至所述重叠区域内。
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