[发明专利]修整图形的方法、介质、服务器及光学掩模的制造方法有效
| 申请号： | 201910238963.8 | 申请日： | 2019-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN110068986B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 李阳;李金鑫;姜鹏 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F1/84 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 陈敏 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种修整图形的方法、介质、服务器及光学掩模的制造方法，所述修整图形的方法包括：利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌，获得形貌图，所述形貌图体现了晶圆表面的高低；对晶圆表面不符合预设高度的区域进行标记，获得阶高标记层信息；根据所述阶高标记层信息建立对应的景深模型；利用所述景深模型对待修整的图形进行光学邻近校正处理。本发明所述的修正图形的方法能够检测出晶圆表面的不平坦区域上的热点问题，并且通过图形校正优化修正该问题造成的不良影响，提高器件的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 修整 图形 方法 介质 服务器 光学 制造 | ||
【主权项】：
1.一种修整图形的方法，其特征在于，所述方法包括：利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌，获得形貌图，所述形貌图体现了晶圆表面的高低；对晶圆表面不符合预设高度的区域进行标记，获得阶高标记层信息；根据所述阶高标记层信息建立对应的景深模型；利用所述景深模型对待修整的图形进行光学邻近校正处理。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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