[发明专利]修整图形的方法、介质、服务器及光学掩模的制造方法

权利要求书

1.一种修整图形的方法，其特征在于，所述方法包括：

利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌，获得形貌图，所述形貌图体现了晶圆表面的高低；

对晶圆表面不符合预设高度的区域进行标记，获得阶高标记层信息；

根据所述阶高标记层信息建立对应的景深模型；

利用所述景深模型对待修整的图形进行光学邻近校正处理；所述修整图形的方法包括：

基于预设信息生成第一GDS文件；所述预设信息包括晶圆相关信息和工艺相关信息；

基于第一GDS文件进行标准光学邻近校正，生成标准光学邻近校正结果；

基于标准光学邻近校正结果进行标准光学规则检查，生成第二GDS文件；

基于第一GDS文件利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌；

将对应不同区域的景深模型的信息导入所述第二GDS文件，对所述第二GDS文件进行光学邻近校正处理生成第三GDS文件。

2.根据权利要求1所述的修整图形的方法，其特征在于，所述对晶圆表面不符合预设高度的区域进行标记，获得阶高标记层信息的一种实现过程包括：

根据所述晶圆表面的高度将晶圆表面划分成不同的区域，相邻区域的高度不同；

符合预设高度的区域为非修整区，不符合预设高度的区域为待修整区；

利用GDS标记层方式对各所述待修整区进行标记，获得对应区域的阶高标记层信息；高度相同的待修整区域获得相同的阶高标记层信息。

3.根据权利要求2所述的修整图形的方法，其特征在于，根据所述晶圆表面的高度将晶圆表面划分成不同的区域的一种实现方法包括：

根据所述晶圆表面的高低差将晶圆表面划分成不同的区域；划分方式包括：所述高低差符合预设划分范围或符合预设划分值。

4.根据权利要求2所述的修整图形的方法，其特征在于，根据所述阶高标记层信息建立对应的景深模型的一种实现过程包括：

根据所述阶高标记层信息获得对应该阶高的焦距，建立对应焦距下的光学模型，即所述景深模型；所述景深模型的焦距与对应的阶高匹配；所述阶高即为高低差。

5.根据权利要求3所述的修整图形的方法，其特征在于，利用所述景深模型对待修整的图形进行光学邻近校正处理的一种实现过程包括：

根据晶圆表面的区域划分，选取与各区域匹配的景深模型仿真对应区域内的曝光图形；

将所述曝光后的图形与掩膜板设计图形进行对比，获得边缘误差；

判断所述边缘误差是否符合预设范围；

若是则完成修整；

否则，移动所述曝光后的图形的边缘位置，继续与所述掩膜板设计图形进行对比，直至边缘误差符合预设范围。

6.根据权利要求1所述的修整图形的方法，其特征在于，所述修整图形的方法还包括：

对所述光学邻近校正处理后的图形进行光学规则检查处理。

7.根据权利要求1所述的修整图形的方法，其特征在于，所述修整图形的方法还包括：

基于预设信息生成所述化学机械抛光模型；所述预设信息包括晶圆相关信息和工艺相关信息；所述晶圆相关信息包括：光刻时所需晶圆的图形尺寸及其误差范围，化学机械抛光后晶圆表面的高度及其误差范围；所述工艺相关信息包括：光刻时要求的景深大小和曝光时图形的坏点。

8.根据权利要求1所述的修整图形的方法，其特征在于，所述修整图形的方法还包括：

基于景深模型对所述第三GDS文件进行光学规则检查处理，生成第四GDS文件。

9.根据权利要求1至7任一项所述的修整图形的方法，其特征在于，所述修整图形的方法包括：

基于预设信息生成第一GDS文件；所述预设信息包括晶圆相关信息和工艺相关信息；

基于第一GDS文件利用化学机械抛光模型模拟晶圆的表面形貌；

基于对应不同区域的所述景深模型的信息生成第五GDS文件；

基于所述景深模型对所述第五GDS文件进行光学邻近校正处理，生成第六GDS文件。