[发明专利]双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 201910225041.3 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN109856925B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 李志丹;陈勇辉;李会丽 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 31295 上海思捷知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，两个工件台分别位于曝光区和测量区时可以同步对柔性卷带执行测量和曝光，完成测量和曝光后，两个工件台移动以切换工作区，在工件台移动的过程中控制模块根据测量模块测量的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块对光罩进行调整，并在测量区的柔性卷带到达曝光区后控制曝光模块对曝光区的柔性卷带进行曝光。本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性卷带 双工件台 曝光区 测量 曝光 工件台 曝光装置 测量区 焦面 测量模块 测量数据 调整模块 控制模块 曝光工序 曝光模块 同步曝光 控制光 位数据 移动 产能 对位 区时 并行 耗时 | ||
【主权项】：
1.一种双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，包括：/n两个工件台，均用于承载柔性卷带；/n曝光模块，位于两个所述工件台之间，包括照明单元、掩模台及物镜单元，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述掩模台上承载的光罩和所述物镜单元后照射至所述工件台承载的柔性卷带上以进行曝光；/n测量模块，用于对其对应的所述工件台上承载的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量；/n传送模块，用于向其对应的所述工件台传送所述柔性卷带；/n所述曝光模块下方为曝光区；所述测量模块下方为测量区；两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光；两个所述工件台移动以切换工作区；通过每个工件台对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。/n
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