[发明专利]双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法

说明书

本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，两个工件台分别位于曝光区和测量区时可以同步对柔性卷带执行测量和曝光，完成测量和曝光后，两个工件台移动以切换工作区，在工件台移动的过程中控制模块根据测量模块测量的对位数据和/或焦面测量数据控制光罩调整模块对光罩进行调整，并在测量区的柔性卷带到达曝光区后控制曝光模块对曝光区的柔性卷带进行曝光。本发明采用双工件台并行的模式，测量区的工件台上的柔性卷带进行对位和/或焦面测量时，曝光区的工件台上柔性卷带进行同步曝光，在切换工作区过程中，完成对光罩的调整，双工件台同时对柔性卷带进行处理，合理利用时间，减少曝光工序的耗时，有利于提高产能。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法。

背景技术

由带状柔性卷带制成的薄膜电路基板广泛应用于移动电话、液晶荧幕以及智能卡等领域中。由带状柔性卷带制成薄膜电路基板的过程通常包括：在带状柔性卷带上涂布光阻的工序、将光罩上的图案转移到光阻上的曝光和显影工序、将光阻上的图案转移到带状柔性卷带上的蚀刻工序。带状柔性卷带通常缠绕在卷轴上，在各工序中，带状柔性卷带从卷轴上卷出至对应的工件台上，进行相应的加工，完成加工后再次卷绕在卷轴上。

目前，曝光工序所采用的工件台只有一个，在曝光过程中，先将带状柔性卷带移至工件台上，然后对所述带状柔性卷带进行对位和/或测量，接着根据对位测量和/或测量的数据调整工件台以对所述带状柔性卷带进行聚焦调整，从而确保所述带状柔性卷带调整至适宜曝光的状态，然后利用曝光模块对所述带状柔性卷带进行曝光。可见，这种曝光方法是对一个带状柔性卷带顺次进行对位测量、聚焦调整及曝光，这个带状柔性卷带完成曝光之后，才开始下一个带状柔性卷带对位测量、聚焦调整及曝光，直至完成所有带状柔性卷带的曝光。即，这种曝光方法是采用对位测量、聚焦调整及曝光先后串行的模式，耗时较长，导致产能较低，不利于大规模量产使用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法，减少曝光工序的制程时间，提高产能。

为解决上述技术问题，本发明提供一种双工件台柔性卷带曝光装置，包括：

两个工件台，均用于承载柔性卷带；

曝光模块，位于两个所述工件台之间，包括照明单元、掩摸台及物镜单元，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述掩摸台上承载的光罩和所述物镜单元后照射至所述工件台承载的柔性卷带上以进行曝光；

测量模块，用于对其对应的所述工件台上承载的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量；

传送模块，用于向其对应的所述工件台传送所述柔性卷带；

所述曝光模块下方为曝光区；所述测量模块下方为测量区；两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光；两个所述工件台移动以切换工作区；通过每个工件台对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

可选的，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；

所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

所述第一光源用于提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据。

可选的，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元，所述第二光源用于提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据。

可选的，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：