[发明专利]双工件台柔性卷带曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，包括：

两个工件台，均用于承载柔性卷带；

曝光模块，位于两个所述工件台之间，包括照明单元、掩模台及物镜单元，所述照明单元出射光束，所述光束经过所述掩模台上承载的光罩和所述物镜单元后照射至所述工件台承载的柔性卷带上以进行曝光；

测量模块，用于对其对应的所述工件台上承载的柔性卷带进行对位测量和/或焦面测量；

传送模块，用于向其对应的所述工件台传送所述柔性卷带；

所述曝光模块下方为曝光区；所述测量模块下方为测量区；两个所述工件台分别位于所述曝光区和所述测量区以同步对所述柔性卷带执行测量和曝光；两个所述工件台移动以切换工作区；通过每个工件台对应的测量模块的测量结果使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内和/或实现曝光对准。

2.如权利要求1所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述柔性卷带上设置有第一对位标记；

所述测量模块包括：第一光源、用于承载对位标记单元的承载台和第一图像获取单元，所述对位标记单元上设置有与所述第一对位标记相对应的第二对位标记；

所述第一光源用于提供对位光线，所述对位光线依次照射至所述第二对位标记和所述第一对位标记并经所述测量区上的柔性卷带反射，反射光线穿过所述对位标记单元至所述第一图像获取单元以获得对位数据。

3.如权利要求2所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述测量模块还包括：第二光源、投影镜单元、探测镜单元和第二图像获取单元，所述第二光源用于提供测量光线，所述测量光线经所述投影镜单元照射至所述测量区上的柔性卷带表面并被反射，反射光线经所述探测镜单元后至所述第二图像获取单元以获得焦面测量数据。

4.如权利要求3所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

光罩调整模块，根据所述测量模块的测量结果调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

5.如权利要求4所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述双工件台柔性卷带曝光装置还包括：

控制模块，与所述测量模块、所述光罩调整模块和所述传送模块分别信号连接，并根据所述测量模块的测量结果控制所述光罩调整模块调整所述光罩以使所述曝光区的柔性卷带在所述物镜单元的焦深度范围内。

6.如权利要求4所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述光罩调整模块包括光罩调整单元和对位标记单元调整单元，所述光罩调整单元根据所述焦面测量数据调整所述光罩沿垂直于所述工件台表面的方向移动，所述对位标记单元调整单元根据所述对位数据调整所述光罩在平行于所述工件台表面的平面内移动。

7.如权利要求6所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述光罩调整单元包括：第一位移传感器和至少一个第一调整单元，所述第一调整单元包括第一马达和螺杆，所述第一马达用于驱动所述螺杆在垂直于所述工件台表面的方向上移动，从而带动固定于所述掩模台上的光罩移动，所述第一位移传感器用于获取所述掩模台的位移数据。

8.如权利要求6所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述对位标记单元调整单元包括：第二位移传感器和至少两个第二调整单元，所述第二调整单元包括第二马达、凸轮、弹性元件和第二位移传感器，所述第二马达用于驱动所述凸轮旋转以使所述弹性元件带动所述承载台移动，从而使固定于所述承载台上的对位标记单元在平行于所述工件台表面的平面内移动，所述第二位移传感器用于获取所述承载台的位移数据。

9.如权利要求5所述的双工件台柔性卷带曝光装置，其特征在于，所述传送模块包括：开卷滚、第一中间导滚、第二中间导滚和收卷滚，所述控制模块控制所述柔性卷带从所述开卷滚传出、经所述第一中间导滚导入所述工件台，在所述工件台上传动后经所述第二中间导滚导入至所述收卷滚。