[发明专利]一种ITO表面特性均一化装置

摘要

本发明涉及一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体、送料机构、移动机构与等离子体表面处理机，所述真空箱体内从下往上依次安装有送料机构与移动机构，送料机构上方布置有等离子体表面处理机，等离子体表面处理机安装在移动机构上，且真空箱体左侧开设有进料口，真空箱体右侧开设有出料口，送料机构包括封闭筒、旋转辊、旋转电机、伸缩板、连接架、滑动架、固定架与伸缩架，移动机构包括直线导轨、移动架、横向移动支链与纵向移动支链。本发明可以解决目前ITO表面特性均一化过程中存在的不能连续对ITO进行表面处理、工作效率低、使用等离子体处理时气密性无法得到保证与表面处理均匀性差等难题。

主权项

1.一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体(1)、送料机构(2)、移动机构(3)与等离子体表面处理机(4)，其特征在于：所述真空箱体(1)内从下往上依次安装有送料机构(2)与移动机构(3)，送料机构(2)上方布置有等离子体表面处理机(4)，等离子体表面处理机(4)安装在移动机构(3)上，且真空箱体(1)左侧开设有进料口，真空箱体(1)右侧开设有出料口；其中：所述送料机构(2)包括封闭筒(21)、旋转辊(22)、旋转电机(23)、伸缩板(24)、连接架(25)、滑动架(26)、固定架(27)与伸缩架(28)，封闭筒(21)安装在真空箱体(1)内壁上，封闭筒(21)侧壁上沿其周向方向均匀开有方口，相邻方口之间开设有通槽：‑封闭筒(21)内布置有旋转辊(22)，旋转辊(22)通过轴承安装在真空箱体(1)侧壁上，且旋转辊(22)后端通过联轴器与旋转电机(23)输出轴相连接，旋转电机(23)通过电机座安装在真空箱体(1)侧壁上，旋转辊(22)侧壁上沿其周向方向均匀安装有伸缩板(24)，伸缩板(24)位置与方口位置一一对应，伸缩板(24)为上下可伸缩结构，伸缩板(24)侧壁上安装有连接架(25)，连接架(25)上端安装有滑动架(26)，滑动架(26)侧壁通过滑动配合方式与封闭筒(21)内壁相连接，滑动架(26)中部开设有方槽，方槽上端布置有固定架(27)，固定架(27)与滑动架(26)之间连接有伸缩架(28)，伸缩架(28)为上下可伸缩结构，且固定架(27)下端与伸缩板(24)顶端相连接；所述移动机构(3)包括直线导轨(31)、移动架(32)、横向移动支链(33)与纵向移动支链(34)，直线导轨(31)数量为二，两个直线导轨(31)左右对称安装在真空箱体(1)内壁上，直线导轨(31)下端通过滑动配合方式与移动架(32)侧壁相连接，移动架(32)为U型结构，移动架(32)上开设有横向槽，横向槽内布置有横向移动支链(33)，移动架(32)后端与纵向移动支链(34)侧壁相连接。