[发明专利]一种ITO表面特性均一化装置

说明书

本发明涉及一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体、送料机构、移动机构与等离子体表面处理机，所述真空箱体内从下往上依次安装有送料机构与移动机构，送料机构上方布置有等离子体表面处理机，等离子体表面处理机安装在移动机构上，且真空箱体左侧开设有进料口，真空箱体右侧开设有出料口，送料机构包括封闭筒、旋转辊、旋转电机、伸缩板、连接架、滑动架、固定架与伸缩架，移动机构包括直线导轨、移动架、横向移动支链与纵向移动支链。本发明可以解决目前ITO表面特性均一化过程中存在的不能连续对ITO进行表面处理、工作效率低、使用等离子体处理时气密性无法得到保证与表面处理均匀性差等难题。

技术领域

本发明涉及ITO加工设备领域，具体的说是一种ITO表面特性均一化装置。

背景技术

ITO导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡(俗称ITO)膜加工制作成的。高档液晶显示器专用ITO玻璃在溅镀ITO层之前基片玻璃还要进行清洁处理处理，以得到更均匀的显示控制。

基板在清洗后都需要经过等离子清洗设备，等离子清洗设备喷出的等离子体与基板表面的有机物结合，将有机物氧化分解成水和二氧化碳等以除去基板表面的有机物，以提高ITO表面特性的均一性。因此，等离子清洗设备的清洗效果直接影响基板的品质。

现有的等离子清洗设备在工作时无法连续对ITO进行处理，需要待一块ITO玻璃清洗完毕将其取出后，再将下一块ITO放置在清洗设备内，清洗效率低，无法满足生产需要，且在使用等离子清洗设备时，需要保证清洗室的密闭性，频繁对ITO进行放置与拿取，势必会降低清洗室的密闭性，影响清洗效果。

为了改善上述问题，提高ITO表面特性的均一性，本发明提供了一种ITO表面特性均一化装置。

发明内容

为了弥补现有技术的不足，本发明提供了一种ITO表面特性均一化装置，可以解决目前ITO表面特性均一化过程中存在的不能连续对ITO进行表面处理、工作效率低、使用等离子体处理时气密性无法得到保证与表面处理均匀性差等难题。

本发明所要解决其技术问题所采用以下技术方案来实现：一种ITO表面特性均一化装置，包括真空箱体、送料机构、移动机构与等离子体表面处理机，所述真空箱体内从下往上依次安装有送料机构与移动机构，送料机构上方布置有等离子体表面处理机，等离子体表面处理机安装在移动机构上，且真空箱体左侧开设有进料口，真空箱体右侧开设有出料口；其中：

所述送料机构包括封闭筒、旋转辊、旋转电机、伸缩板、连接架、滑动架、固定架与伸缩架，封闭筒安装在真空箱体内壁上，封闭筒侧壁上沿其周向方向均匀开有方口，相邻方口之间开设有通槽：

-封闭筒内布置有旋转辊，旋转辊通过轴承安装在真空箱体侧壁上，且旋转辊后端通过联轴器与旋转电机输出轴相连接，旋转电机通过电机座安装在真空箱体侧壁上，旋转辊侧壁上沿其周向方向均匀安装有伸缩板，伸缩板位置与方口位置一一对应，伸缩板为上下可伸缩结构，伸缩板侧壁上安装有连接架，连接架上端安装有滑动架，滑动架侧壁通过滑动配合方式与封闭筒内壁相连接，滑动架中部开设有方槽，方槽上端布置有固定架，固定架与滑动架之间连接有伸缩架，伸缩架为上下可伸缩结构，且固定架下端与伸缩板顶端相连接；旋转电机的结构、原理及控制方法均为现有技术，将伸缩板长度调节适当后，使得固定架能够伸出进料口，以便通过现有设备将待处理的ITO玻璃固定在固定架上，再通过旋转电机带动旋转辊进行转动，从而达到带动ITO玻璃依次经过进料口、等离子体表面处理机下方与出料口的目的，能够连续地对ITO玻璃进行表面处理，提高了处理效率，且在转动过程中，滑动架在封闭筒内壁上滑动，能够阻止过多空气进入真空箱体，保证了真空箱体内的密闭性。