[发明专利]一种微波等离子体金刚石膜沉积设备有效
申请号: | 201910217762.X | 申请日: | 2019-03-21 |
公开(公告)号: | CN109778138B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 闫宁;吴啸;郭兴星;范波;蔡玉珺;常豪峰;徐帅 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 王聚才 |
地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及微波等离子体化学气相沉积技术领域,具体公开了一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,其微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接,所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片,外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有泄气间隙,顶部和底部的泄气间隙通过第二通气孔连通,在底板上的第三通气孔用于将泄气间隙与第二出气管连通,第二出气管与抽真空装置连接。本发明能有效隔离外界空气,维持了反应腔内真空工作环境,有效降低了本类型MPCVD设备的真空漏率,最终实现反应腔与外部空气有效隔离,为制备高品质产品提供了有利保障,提高了微波等离子体化学气相沉积产品质量,满足科研和工业化生产需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 金刚石 沉积 设备 | ||
【主权项】:
1.一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在上盖板的顶部设置有进气口,在底板上设置有抽气口,所述抽气口接入抽真空装置,将反应腔抽为真空环境;还包括沉积台和微波石英窗,微波石英窗为圆环形,设于沉积台与底板之间,通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离,其特征在于,所述微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接,在沉积台和底板上设有第二密封槽,所述密封垫片组设于第二密封槽内,所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片,外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有圆环形的泄气间隙,与泄气间隙相对应的微波石英窗上绕周向均布多个第二通气孔,将微波石英窗的顶部与底部贯穿连通,第二通气孔分别与顶部和底部的泄气间隙连接,在底板上设有一个或多个第三通气孔,第三通气孔上端与底部的泄气间隙连接,第三通气孔下端与第二出气管连接,第二出气管与抽真空装置连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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