[发明专利]一种微波等离子体金刚石膜沉积设备有效
申请号: | 201910217762.X | 申请日: | 2019-03-21 |
公开(公告)号: | CN109778138B | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 闫宁;吴啸;郭兴星;范波;蔡玉珺;常豪峰;徐帅 | 申请(专利权)人: | 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 王聚才 |
地址: | 450001 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微波 等离子体 金刚石 沉积 设备 | ||
1.一种微波等离子体金刚石膜沉积设备,包括上盖板、底板及由两者围成的反应腔,在上盖板的顶部设置有进气口,在底板上设置有抽气口,所述抽气口接入抽真空装置,将反应腔抽为真空环境;还包括沉积台和微波石英窗,微波石英窗为圆环形,设于沉积台与底板之间,通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离,其特征在于,所述微波石英窗的顶部和底部通过密封垫片组分别与沉积台和底板密封连接,在沉积台和底板上分别设有第二密封槽,所述密封垫片组设于第二密封槽内,所述密封垫片组包括外圈密封垫片和内圈密封垫片,外圈密封垫片和内圈密封垫片间设有圆环形的泄气间隙,与泄气间隙相对应的微波石英窗上绕周向均布多个第二通气孔,将微波石英窗的顶部与底部贯穿连通,第二通气孔分别与顶部和底部的泄气间隙连接,在底板上设有一个或多个第三通气孔,第三通气孔上端与底部的泄气间隙连接,第三通气孔下端与第二出气管连接,第二出气管与抽真空装置连接。
2.根据权利要求1所述的微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征在于,在底板与上盖板的连接处通过O型密封圈组进行密封,所述O型密封圈组包括呈同心圆设置的外密封圈及内密封圈,所述O型密封圈组设于底板上的第一密封槽内,两圈第一密封槽间通过环形泄气通道相连通,在底板上与环形泄气通道相对应的圆周上设有一个或多个第一通气孔,所述第一通气孔的上端与环形泄气通道连接,第一通气孔的下端与第一出气管连接,第一出气管下部与抽真空装置连接。
3.根据权利要求1所述的微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征在于,所述微波石英窗上位于第二通气孔所在圆周设有环形凹槽,所述环形凹槽与泄气间隙相对应且连通。
4.根据权利要求3所述的微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征在于,所述第二通气孔沿微波石英窗轴向设置。
5.根据权利要求4所述的微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征在于,所述第二通气孔的个数不少于四个。
6.根据权利要求1所述的微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征在于,所述第二通气孔的内径为4-6mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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