[发明专利]晶圆测厚装置及晶圆测厚系统有效

专利信息
申请号: 201910077439.7 申请日: 2019-01-25
公开(公告)号: CN109817539B 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 王勇威;范文斌;周立庆;李家明;温涛 申请(专利权)人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 赵志远
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种晶圆测厚装置及晶圆测厚系统,涉及电子测量设备技术领域,以缓解现有技术中存在的晶圆良品率较低的技术问题。该晶圆测厚装置包括底板、测量机构和回转机构;测量机构包括支撑架、安装座和测距传感器;支撑架设置于底板;安装座连接于支撑架的远离底板的一端,且安装座开设测量槽口;两个测距传感器连接于安装座,且相向伸入测量槽口;回转机构连接于底板,回转机构能够转动,且旋转轴线垂直于测量槽口的内壁;回转机构的前端面所在平面位于测量槽口的两个内壁所在两个平面之间。本发明提供的技术方案提高了晶圆良品率。
搜索关键词: 晶圆测厚 装置 系统
【主权项】:
1.一种晶圆测厚装置,其特征在于,包括底板、测量机构和回转机构;所述测量机构包括支撑架、安装座和测距传感器;所述支撑架设置于所述底板;所述安装座连接于所述支撑架的远离所述底板的一端,且所述安装座开设测量槽口;两个所述测距传感器连接于所述安装座,且相向伸入所述测量槽口;所述回转机构连接于所述底板,所述回转机构能够转动,且旋转轴线垂直于所述测量槽口的内壁;所述回转机构的前端面所在平面位于所述测量槽口的两个内壁所在两个平面之间。
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