[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法有效
| 申请号： | 201910037872.8 | 申请日： | 2019-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN110752136B | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 徐浩;内田丈滋;中元茂;福地功祐;井上智己 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 高颖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供等离子处理装置以及等离子处理方法，即使不改变所期望的工艺条件也能提升等离子点火性，抑制给被处理物的处理后尺寸带来影响。等离子处理装置(100)具备：处理室(114)；产生微波并投射到处理室(114)内的磁控管(105)；配置于处理室(114)内并放置晶片(300)的电极；产生用于使所述电极静电吸附晶片(300)的电位的静电吸附电源(112)；将工艺气体提供到处理室(114)内的工艺气体提供源(118)；和等离子点火促进装置，所述等离子点火促进装置是将经过脉冲调制的紫外线照射到处理室(114)内的紫外线光源(102、115)。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理装置，具备：/n处理室，对样品进行等离子处理；/n高频电源，提供用于生成等离子的高频电力；/n样品台，载置所述样品；和/n紫外线光源，照射紫外线，/n所述等离子处理装置的特征在于，/n还具备控制部，其控制所述紫外线光源，使得在将所述高频电力提供到所述处理室内之前，将经过脉冲调制的紫外线照射到所述处理室内。/n
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