[发明专利]等离子处理装置以及等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，具备：

处理室，对样品进行等离子处理；

高频电源，提供用于生成等离子的高频电力；

样品台，载置所述样品且具备施加用于使所述样品被静电吸附的直流电压的电极；

紫外线光源，照射紫外线；和

工艺气体提供源，将工艺气体提供到所述处理室内，

所述等离子处理装置的特征在于，

还具备控制部，其控制所述高频电源和所述紫外线光源，使得在将所述直流电压施加到所述电极之前以及将所述工艺气体提供到所述处理室内之前，将经过脉冲调制的紫外线照射到所述处理室内，并且，在将所述直流电压施加到所述电极之后以及将所述工艺气体提供到所述处理室内之后，将所述高频电力提供到所述处理室内，

所述紫外线光源配置成将所述经过脉冲调制的紫外线向所述样品照射。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

所述紫外线光源配置成将所述经过脉冲调制的紫外线向被所述样品台静电吸附的样品的负的带电区域照射。

3.一种等离子处理方法，使用通过高频电力生成的等离子来在处理室内对样品进行处理，

所述等离子处理方法的特征在于，

在将用于使所述样品被静电吸附的直流电压施加到载置所述样品的样品台所具备的电极之前以及将工艺气体提供到所述处理室内之前，将经过脉冲调制的紫外线向所述样品照射，并且，在将所述直流电压施加到所述电极之后以及将所述工艺气体提供到所述处理室内之后，将所述高频电力提供到所述处理室内，由此来生成等离子。