[发明专利]激光退火方法和阵列基板

摘要

本发明公开了一种激光退火方法和阵列基板，属于显示技术领域。所述方法包括：提供衬底基板；在至少一个非晶硅图案远离衬底基板的一侧设置掩膜组件，掩膜组件包括掩膜板和微透镜阵列；通过激光光源从掩膜组件远离非晶硅图案的一侧照射掩膜组件，激光光源发出的激光透过掩膜组件中的掩膜板和微透镜阵列后照射在至少一个非晶硅图案的指定区域。本发明通过包括掩膜板以及微透镜阵列的掩膜组件来控制激光光源发出的激光，使该激光照射在非晶硅层上的指定区域。限制了进行激光退火的区域，进而缩小了非晶硅层中转化为多晶硅层的面积。解决了相关技术中有源层构成的TFT的漏电流较大的问题。达到了降低有源层构成的TFT的漏电流的效果。

主权项

1.一种激光退火方法，其特征在于，所述方法包括：提供衬底基板，所述衬底基板上设置有至少一个非晶硅图案；在所述至少一个非晶硅图案远离所述衬底基板的一侧设置掩膜组件，所述掩膜组件包括掩膜板和微透镜阵列；通过激光光源从所述掩膜组件远离所述非晶硅图案的一侧照射所述掩膜组件，所述激光光源发出的激光透过所述掩膜组件中的掩膜板和微透镜阵列后照射在所述至少一个非晶硅图案的指定区域，以对所述至少一个非晶硅图案的指定区域进行退火。