[发明专利]用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备

摘要

本发明涉及一种用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法，该过程用于在反应器(14)的过程腔(15)中的衬底(18)上沉积至少一个层、尤其半导体层，其中，以时间序列将用于致动器(2、4、6、9、11、23)的调节数据(SD)、传感器(3、4、24、25)的测量值(MW)作为原始数据(RD)和其时间基准一起存储在日志文件(40)中。通过使用原始数据(RD)应该获得关于沉积的层的品质的认识。为此，借助计算装置通过原始数据(RD)的关系建立(41)从原始数据(RD)获得过程参数(PP)，通过分析(42)过程参数(PP)的时间变化曲线识别过程步骤(P1至Pn)的开始和结束以及过程步骤的类型；针对过程步骤(P1至Pn)的至少一些，从测量值(MW)形成对应于过程步骤的相应类型的、特征性的过程步骤参量(PG)；并且将因此获得的过程步骤参量(PG)与存储在过程数据存储器(44)中的、配属于至少类似的过程步骤的比较参量(VG)进行比较(45)。