[发明专利]用于获得关于以CVD法沉积的层的信息的方法和设备在审
申请号: | 201880088514.3 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN111684104A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | P.S.劳弗 | 申请(专利权)人: | 艾克斯特朗欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/52;C30B25/16;G05B19/042;C23C16/448 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 任丽荣 |
地址: | 德国黑*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 获得 关于 cvd 沉积 信息 方法 设备 | ||
1.一种用于获得关于由多个依次进行的步骤构成的过程的信息的方法,所述过程用于在反应器(14)的过程腔(15)中的衬底(18)上沉积至少一个层、尤其半导体层,其中,使用至少包含用于致动器(2、4、6、9、11、23)的调节数据(SD)的时间序列的原始数据(RD),其特征在于,借助计算装置通过原始数据(RD)的关系建立(41)从原始数据(RD)获得过程参数(PP),通过分析(42)过程参数(PP)的时间变化曲线识别过程步骤(P1至Pn)的开始和结束。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,从过程参数(PP)确定所找到的步骤的类型,或对所述步骤进行识别。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,针对过程步骤(P1至Pn)的至少一些,由传感器(3、4、4’、24、25、47)的测量值(MW)形成对应于所述过程步骤的相应类型的、特征性的过程步骤参量(PG)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,针对被识别的过程步骤触发对通常的原位测量系统的自动的更复杂的分析、尤其反射率测量,并且利用分析结果形成对应的过程步骤参量、例如生长速率,和/或在使用过程参数(PP)、被识别的过程步骤(P1至Pn)和/或所找到的步骤的类型的情况下接通或切断传感器或对传感器产生影响。
5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于,将因此获得的过程步骤参量(PG)与存储在过程数据存储器(44)中的、配属于至少类似的过程步骤的比较参量(VG)进行比较(45)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,从日志文件(40)提取原始数据(RD),在所述日志文件中存储调节数据(SD)和传感器(3、4、4’、24、25、47)的测量值(MW)的时间序列,和/或从设施过程流程控制器提取原始数据(RD),和/或从配方数据提取原始数据(RD)。
7.根据权利要求5或6所述的方法,其特征在于,由在一个或多个之前实施的过程中已确定的测量值(MW)形成比较参量(VG)。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的方法,其特征在于,仅当所述过程的所有过程步骤(P1至Pn)至少在顺序和/或类型和/或时间段中与之前实施的过程的过程步骤(P1至Pn)在预设的限制内一致时,所述过程步骤参量(PG)才与比较参量(VG)比较。
9.根据权利要求5至8中任一项所述的方法,其特征在于,所述比较参量(VG)分别包含关于多个之前的过程的测量值(MW)在时间上被平均的平均值和分散范围的值,其中,如果所述过程步骤参量(PG)在比较参量(VG)的平均值附近的分散范围内,那么所述过程参量(PG)被视为在预设的限制内与比较参量(VG)一致,并且如果所述过程步骤参量(PG)在分散范围外,那么所述过程参量(PG)被视为在预设的限制内与比较参量不一致。
10.根据权利要求3至9中任一项所述的方法,其特征在于,在确定过程步骤参量(PG)或比较参量(VG)时,启动效应被隐藏和/或由测量值形成平均值和/或形成与平均值的平均偏差。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在获得过程参数(PP)时仅使用调节数据(SD),其中,尤其仅从在过程步骤(Pi)期间通过改变致动器的调节值影响测量值(MW)的致动器(2、4、6、9、11、23)的调节数据(SD)获得过程参数(PP)。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,从仅如下致动器(2、4、6、9、11、23)的调节数据(SD)获得过程参数(PP),所述致动器的调节值影响过程腔(15)中的温度、从包含液体或固体的源(12)利用运载气体传输至过程腔(15)中的金属有机原料的质量流量、尤其利用运载气体传输至过程腔(15)中的混合物的质量流量和/或过程腔(15)中的总压力。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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