[发明专利]发光装置及其制造方法以及投影仪有效
| 申请号： | 201880069581.0 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN111279565B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 名川伦郁;石泽峻介 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/20 | 分类号： | H01S5/20;G02F1/13357;G03B21/00;G03B21/14;H01S5/30 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 邓毅;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供能够减少电极对光的吸收的发光装置。发光装置具有：基体；以及层叠体，其设置于所述基体，所述层叠体具有：第1半导体层；第2半导体层，其导电型与所述第1半导体层不同；以及活性层，其设置于所述第1半导体层与所述第2半导体层之间，所述第1半导体层设置于所述基体与所述活性层之间，在所述层叠体的与所述基体侧相反的一侧设置有凹部，在所述凹部设置有折射率比所述第2半导体层的折射率低的低折射率部，所述凹部的深度为所述层叠体的与所述基体侧相反的一侧的面和所述活性层之间的距离以下，在所述层叠体的与所述基体侧相反的一侧设置有电极。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 及其 制造 方法 以及 投影仪 | ||
【主权项】：
暂无信息
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