[发明专利]泵送线布置中的改进或与其相关的改进有效
申请号: | 201880045121.4 | 申请日: | 2018-07-03 |
公开(公告)号: | CN110869528B | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | A.J.西利 | 申请(专利权)人: | 爱德华兹有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;F04C19/00;F04C25/02;F04B41/00;H01L21/02;H01L21/205;H01L21/67 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙鹏;刘春元 |
地址: | 英国西萨*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在半导体制造领域中,存在确保不同的不相容过程流不以由此存在发生不同过程流之间的灾难性反应的高风险的方式而彼此混合的需要。一种泵送线布置(10)包括腔室连接线(12),所述腔室连接线(12)流体地可连接到形成半导体制造工具(15)的一部分的过程腔室(14)。所述泵送线布置(10)还包括阀模块(16),所述阀模块(16)流体地连接到所述腔室连接线(12)。所述阀模块(16)将所述腔室连接线(12)分成相应的第一和第二泵送线(18、20)。所述第一泵送线(18)旨在载送第一过程流,并且所述第二泵送线(20)旨在载送与所述第一过程流不相容的第二过程流。所述第一泵送线(18)或所述第二泵送线(20)中的至少一个包括流体地连接在其内的预减少模块(26、28),所述预减少模块(26、28)被配置成从旨在由其它泵送线(18、20)载送的过程流中去除一个或多个不相容的组分。 | ||
搜索关键词: | 泵送线 布置 中的 改进 与其 相关 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的