[发明专利]等离子处理装置在审
| 申请号： | 201880040149.9 | 申请日： | 2018-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN110914951A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·西蒙·霍尔·布鲁克斯;加雷思·亨尼根;吉安弗兰可·阿拉斯塔;希奥布翰·玛丽·伍拉德;理查德·安东尼·莱昂纳;沙林达·维克拉姆·辛格 | 申请（专利权）人： | 赛姆布兰特有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体处理装置，用于使用等离子体处理衬底，包括：在其中进行处理的处理室；用于向所述处理室提供等离子体的等离子体源；在所述处理室中用于保持所述衬底的衬底底座，该衬底底座包括具有多个孔的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛姆布兰特有限公司，未经赛姆布兰特有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880040149.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
