[发明专利]优化用于产品单元的多阶段处理的装置有效
| 申请号： | 201880021072.0 | 申请日： | 2018-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN110494865B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | J·尼杰;A·雅玛;D·格科劳;G·特斯洛吉安尼斯;R·J·范维杰克;陈子超;F·R·斯佩林格;S·罗伊;C·D·格劳维斯特拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种优化用于诸如晶片等产品单元的多阶段处理的装置的方法，该方法包括：(a)接收对象数据(210，230)，对象数据(210，230)表示跨晶片(204，224)测量(206，208)的并且与晶片的不同处理阶段相关联的一个或多个参数；(b)确定跨晶片的对象数据的变化的指印(213，234)，这些指印与晶片的相应的不同处理阶段相关联。指印可以通过针对相应的每个不同阶段使用主成分分析将对象数据分解(212，232)成成分来确定；(c)分析(246)指印在不同阶段的共性以产生共性结果；以及(d)基于共性结果优化(250‑258)用于处理(262)产品单元的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 优化 用于 产品 单元 阶段 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于优化产品单元的多阶段处理的方法，所述方法包括：/n(a)接收对象数据，所述对象数据表示在不同处理阶段在多个产品单元上测量的一个或多个参数；/n(b)确定跨所述多个产品单元中的每个产品单元的所述对象数据的变化的指印，所述指印与相应的不同处理阶段相关联；/n(c)分析所述指印在所述不同处理阶段的共性以产生共性结果；以及/n(d)基于所述共性结果优化用于处理产品单元的装置。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880021072.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：3D模型的集成
- 下一篇：用于对象识别的多个传感器的数据的融合
