[发明专利]优化用于产品单元的多阶段处理的装置

权利要求书

1.一种优化用于衬底的多阶段处理的装置的方法，所述方法包括：

(a)接收对象数据，所述对象数据表示在不同阶段在多个衬底上测量的一个或多个参数；

(b)确定跨所述多个衬底中的每个衬底的所述对象数据的变化的指印，所述指印与相应的不同阶段相关联；

(c)分析所述指印在所述不同阶段的共性以产生共性结果；以及

(d)基于所述共性结果优化用于处理衬底的所述装置。

2.根据权利要求1所述的方法，其中确定指印的步骤(b)包括：将所述对象数据分解成用于每个相应的不同阶段的成分。

3.根据权利要求2所述的方法，其中分解包括：使用所述对象数据的主成分分析来获得正交主成分。

4.根据权利要求1所述的方法，其中分析共性的步骤(c)包括：标识所述指印中的在所述不同阶段共同的至少一个指印。

5.根据权利要求4所述的方法，其中分析所述指印的共性的步骤(c)包括：渲染控制板，所述控制板示出通过阶段布置的所确定的指印，以及接收用户输入，所述用户输入标识所述指印中的在所述不同阶段共同的所述至少一个指印。

6.根据权利要求1所述的方法，其中优化用于处理衬底的装置的步骤(d)包括：优化用于处理用于在其多阶段处理的后续阶段从其测量所述对象数据的所述衬底的装置。

7.根据权利要求2所述的方法，其中所述成分接收属性数据。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述属性数据指示以下中的一项或多项：解释跨所述衬底的对象数据的变化的所述成分的相关性、所述成分的可靠性、以及在遵守所述成分的情况下工艺的预期产量。

9.根据权利要求7所述的方法，其中优化用于处理所述衬底的所述装置的步骤(d)基于所述共性结果和所述属性数据。

10.根据权利要求1所述的方法，还包括接收上下文数据的步骤(e)，所述上下文数据表示所述衬底的所述不同阶段的处理的一个或多个参数，其中优化用于后续阶段的处理的装置的步骤(d)基于所标识的至少一个指印和所述上下文数据。

11.根据权利要求10所述的方法，其中优化用于后续阶段的处理的装置的步骤(d)包括：使所标识的至少一个指印与所接收的上下文数据相关，以标识用于后续阶段的处理的特定装置。

12.根据权利要求11所述的方法，其中优化用于后续阶段的处理的装置的步骤(d)包括：基于所标识的至少一个指印和所接收的上下文数据来预测跨衬底的产品性能变化，以确定要应用于所述装置以用于后续阶段的处理的工艺校正。

13.根据权利要求1所述的方法，还包括对性能数据集进行排序的步骤，所述对性能数据集进行排序的步骤包括：

(a)确定与第一性能数据集相关联的第一概率密度函数，所述第一性能数据集是通过对在根据权利要求1的步骤(d)优化用于处理衬底的所述装置之前处理的衬底的测量而获得的；

(b)确定与第二性能数据集相关联的第二概率密度函数，所述第二性能数据集是通过对在根据权利要求1的步骤(d)优化用于处理衬底的所述装置之后处理的衬底的测量而获得的；以及

(c)基于所述第一概率密度函数和所述第二概率密度函数对所述性能数据集进行排序。

14.一种计算机程序存储介质，包括计算机可读指令，所述计算机可读指令当在计算机设备上运行时引起所述计算机设备执行根据权利要求1所述的方法。

15.一种计算设备，包括根据权利要求14所述的计算机程序存储介质。