[发明专利]反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜有效
| 申请号： | 201880020371.2 | 申请日： | 2018-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN110462524B | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | J.利珀特;T.格鲁纳;K.希尔德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及反射镜，特别是微光刻投射照明系统的反射镜，其中反射镜具有光学操作表面，包括基板(11、61、71、81、91)；反射层系统(16、66、76、86、96)，反射在光学操作表面(10a、60a、70a、80a、90a)上入射的电磁辐射；电极组装件(13、63、73、83)，配备在基板(11、61、71、81、91)上并由具有第一电导率的第一材料构成；以及中介层(12、62、72、82、92)，由具有第二电导率的第二材料构成。第一电导率和第二电导率之间的比率至少为100，并且反射镜具有至少一个补偿层(88)，其至少部分地补偿电极组装件(83)的热膨胀对光学操作表面(80a)的形变的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 特别是 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，包括：/n基板(11、61、71、81、91)；/n反射层系统(16、66、76、86、96)，反射在所述光学有效表面(10a、60a、70a、80a、90a)上照射的电磁辐射；/n电极布置(13、63、73、83)，由具有第一电导率的第一材料构成，所述电极布置配备在所述基板(11、61、71、81、91)上；以及/n中介层(12、62、72、82、92)，由具有第二电导率的第二材料构成；/n其中所述第一电导率和所述第二电导率之间的比率至少为100；/n其中所述反射镜包括至少一个补偿层(88)，其至少部分地补偿所述电极布置(83)的热膨胀对所述光学有效表面(80a)的形变的影响。/n
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