[发明专利]反射镜，特别是微光刻投射曝光设备的反射镜

权利要求书

1.一种反射镜，其中所述反射镜具有光学有效表面，包括：

基板(11、61、71、81、91)；

反射层系统(16、66、76、86、96)，反射在所述光学有效表面(10a、60a、70a、80a、90a)上照射的电磁辐射；

电极布置(13、63、73、83)，由具有第一电导率的第一材料构成，所述电极布置配备在所述基板(11、61、71、81、91)上；以及

中介层(12、62、72、82、92)，由具有第二电导率的第二材料构成；

其中所述第一电导率和所述第二电导率之间的比率至少为100；

其中所述反射镜包括至少一个补偿层(88)，其至少部分地补偿所述电极布置(83)的热膨胀对所述光学有效表面(80a)的形变的影响；

其中所述电极布置和所述中介层形成为使得通过所述电极布置的电驱动，提供在所述光学有效表面之上横向变化的温度场所需的热量能够在所述中介层中生成；以及

其中所述电极布置和所述中介层配置为产生电流，所述电流关于所述光学有效表面横向地流动，在所述电极布置的至少两个电极之间通过所述中介层。

2.根据权利要求1所述的反射镜，其特征在于，在所述反射镜上照射的电磁辐射的波前通过所述电极布置(13、63、73、83)的电驱动以及所述光学有效表面的伴随的热诱导的形变是可操纵的。

3.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，通过所述电极布置(13、63、73、83)的电驱动，所述反射镜的表面温度是可设定的，使得在所述光学有效表面上、来自热膨胀系数的零交叉温度的表面温度的最大局部偏差——在操作所述反射镜期间发生——小于5开(K)。

4.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，在所述第一电导率和所述第二电导率之间的比率至少为1000。

5.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，所述中介层(12、62、72、82、92)的电导率小于10 000西门子/米(S/m)。

6.根据权利要求5所述的反射镜，其特征在于，所述电导率小于5000西门子/米(S/m)。

7.根据权利要求5所述的反射镜，其特征在于，所述电导率小于200西门子/米(S/m)。

8.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，第一材料选自包含以下的组合：铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、铜(Cu)、金(Au)、铝(Al)、锌(Zn)、锡(Sn)、镍(Ni)、钨(W)、镁(Mg)及其合金。

9.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，所述第二材料选自包含以下的组合：电学导电氧化物，电学导电碳化物，电学导电硼化物，电学导电氮化物以及金属性的半导体。

10.根据权利要求9所述的反射镜，其特征在于，所述电学导电氧化物包括LaNiO₃、SrCoO₃、SrRuO₃、SrTiO₃、以及CaMnO₃。

11.根据权利要求9所述的反射镜，其特征在于，所述金属性的半导体包括锗(Ge)或硅(Si)。

12.根据权利要求1或2所述的反射镜，其特征在于，所述反射镜进一步包括绝缘层(15、65、75、85、95)，其将所述电极布置(13、63、73、83)的互不相同的电极彼此电绝缘。

13.根据权利要求12所述的反射镜，其特征在于，所述绝缘层(15、65、75、85、95)由石英玻璃(SiO₂)制成。