[发明专利]用于输送气体的设备及用于产生高谐波辐射的照射源有效
| 申请号： | 201880018587.5 | 申请日： | 2018-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN110462521B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | S·斯里瓦斯塔瓦;S·B·罗博尔;S·G·J·马西森;林楠;S·N·L·唐德斯;K·F·布斯特雷恩;P·W·斯摩奥伦堡;G·J·H·布鲁斯阿德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/84;G01N21/956;G02F1/35;H01S3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 输送 气体 设备 产生 谐波 辐射 照射 | ||
【主权项】：
1.一种用于照射源中的气体输送系统，包括被布置以在至少第一方向上引导气体的气体输送元件，其中所述气体输送元件包括：/n光学输入；和/n光学输出，/n其中所述光学输入和所述光学输出限定了光学路径，所述光学路径被在第二方向上定向，和/n其中所述第二方向不垂直于且不平行于所述第一方向。/n
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