[发明专利]用于输送气体的设备及用于产生高谐波辐射的照射源

权利要求书

1.一种用于照射源中的气体输送系统，包括：

气体输送元件，所述气体输送元件被布置以在至少第一方向上引导气体，其中所述气体输送元件包括：

光学输入；和

光学输出，

其中所述光学输入和所述光学输出限定了光学路径，所述光学路径在第二方向上被定向，以及

其中所述第二方向不垂直于且不平行于所述第一方向；

其中所述气体的第一部分通过所述光学输入逸出所述气体输送元件，且所述气体的第二部分通过所述光学输出逸出所述气体输送元件；且

其中所述气体的所述第二部分用于吸收所产生的辐射以便减小所产生的辐射的强度，且所述气体的第三部分被引导朝向所述气体输送元件的输出。

2.根据权利要求1所述的气体输送系统，其中所述第一方向相对于所述第二方向成钝角。

3.根据权利要求1或2所述的气体输送系统，其中所述光学输入和光学输出被布置以允许泵浦辐射穿过所述气体以产生高谐波辐射。

4.根据权利要求3所述的气体输送系统，其中所述光学输入和所述光学输出与所述光学路径同心地布置。

5.根据权利要求3所述的气体输送系统，其中所述光学输入包括在所述气体输送系统的第一壁中的开口，且其中所述光学输出包括在所述气体输送系统的相对壁中的开口。

6.根据权利要求3所述的气体输送系统，其中所述光学输入或所述光学输出中的至少一个具有基本上对应于所述泵浦辐射的束横截面的横截面。

7.根据权利要求1所述的气体输送系统，进一步包括连接至所述气体输送元件的至少一个泵浦元件。

8.根据权利要求1所述的气体输送系统，其中所述气体输送元件在所述第一方向上具有以下所述中的一个的横截面：矩形、圆形或椭圆形。

9.根据权利要求1所述的气体输送系统，其中所述气体输送元件包括环形气体输送部件，所述环形气体输送部件被布置以在至少所述第一方向上将气体输送至所述光学路径。

10.根据权利要求9所述的气体输送系统，其中所述环形气体输送部件被布置以在多个第一方向上将气体输送至所述光学路径。

11.根据权利要求1所述的气体输送系统，进一步包括气体缓冲元件。

12.根据权利要求11所述的气体输送系统，其中所述气体缓冲元件包括温度控制元件。

13.根据权利要求1所述的气体输送系统，进一步包括能够操作以修改所述气体的流轮廓的过滤元件。

14.根据权利要求13所述的气体输送系统，其中所述过滤元件能够操作以提供所述气体的层流轮廓。

15.根据权利要求1所述的气体输送系统，进一步包括气体射流成形装置，所述气体射流成形装置能够操作以修改所述气体的流轮廓，使得所述气体的数量密度在泵浦辐射与所述气体相互作用处的泵浦辐射相互作用区域之后在所述光学输出的方向上急剧降低。

16.根据权利要求15所述的气体输送系统，其中所述气体的数量密度在朝向所述输出的方向上在紧接在所述泵浦辐射相互作用区域之后的下降区域内相对于所述泵浦辐射相互作用区域的数量密度降低至少10倍，所述下降区域的长度为所述泵浦辐射相互作用区域的长度的10％或更小。

17.根据权利要求15或16所述的气体输送系统，其中所述流轮廓的所述修改进一步能够操作以相对于没有气体射流成形装置出现的情形延长所述泵浦辐射相互作用区域的长度。