[发明专利]存储器装置的阶梯结构在审

专利信息
申请号: 201880005628.7 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN110121777A 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 吕震宇;陈俊;戴晓望;朱继锋;陶谦;黄郁茹;胡思平;姚兰;肖莉红;郑阿曼;鲍琨;杨号号 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11551 分类号: H01L27/11551;H01L27/11578
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 赵磊;刘柳
地址: 430074 湖北省武汉市东湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 公开一种半导体结构。半导体结构包括设置于基底(101)之上的阶梯结构(800)。阶梯结构(800)包括复数层堆叠层,其中各堆叠层包括设置于第二材料层(840)的一部分之上的第一材料层(502)。阶梯结构(800)还包括多个连接垫(820),其中各连接垫(820)设置于相应的堆叠层的第二材料层(840)的另一部分之上。
搜索关键词: 阶梯结构 堆叠层 半导体结构 第二材料层 连接垫 存储器装置 第一材料 复数层 基底
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:基底;以及阶梯结构,设置于该基底之上,其中该阶梯结构包括:多个堆叠层,每个堆叠层包括第一材料层,设置于第二材料层的第一部分之上;以及多个连接垫,分别设置于该多个堆叠层上,每个连接垫设置于相应的堆叠层的所述第二材料层的第二部分之上。
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