[发明专利]用于沉积蒸发材料的蒸发源、真空沉积系统和用于沉积蒸发材料的方法在审
| 申请号： | 201880005013.4 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN110691861A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯·洛普;D·哈斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/455 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文所述的实施方式涉及一种用于在基板上沉积蒸发材料的蒸发源。所述蒸发源包括具有多个喷嘴的分配管，其中所述多个喷嘴中的至少一个喷嘴包括第一喷嘴区段和第二喷嘴区段，所述第一喷嘴区段被配置为朝向所述基板释放蒸发材料的羽流，所述第二喷嘴区段被配置为对所述蒸发材料羽流塑形。所述第二喷嘴区段具有提供非圆形羽流轮廓的侧壁。根据另一方面，描述了一种真空沉积系统以及一种在基板上沉积蒸发材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴区段 蒸发材料 喷嘴 基板 羽流 蒸发源 沉积 真空沉积系统 非圆形 分配管 侧壁 配置 塑形 释放 | ||
【主权项】：
1.一种用于在基板(10)上沉积蒸发材料的蒸发源(100)，所述蒸发源(100)包括具有多个喷嘴(115)的分配管(110)，/n所述多个喷嘴中的至少一个喷嘴(120)包括第一喷嘴区段(121)和第二喷嘴区段(122)，所述第一喷嘴区段(121)被配置为朝向所述基板(10)释放蒸发材料的羽流(200)，所述第二喷嘴区段(122)被配置为用侧壁(125)对所述蒸发材料的羽流塑形，以提供相对于中心喷嘴轴线(A)的非圆形的羽流轮廓。/n
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