[发明专利]自旋元件的稳定化方法及自旋元件的制造方法有效
| 申请号： | 201880001280.4 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN110419117B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 盐川阳平;佐佐木智生 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | H10N50/10 | 分类号： | H10N50/10;H10N59/00;H01L29/82 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦;陈明霞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的一个方式提供一种自旋元件的稳定化方法，在具备沿第一方向延伸的通电部和层叠于所述通电部的一面且包含铁磁性体的元件部的自旋元件中，在环境温度为规定温度的情况下，沿所述通电部的所述第一方向，在规定的等待时间的间隔内，施加规定次以上电流密度为1.0×10 |
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| 搜索关键词： | 自旋 元件 稳定 方法 制造 | ||
【主权项】：
1.一种自旋元件的稳定化方法，其中，在具备沿第一方向延伸的通电部和层叠于所述通电部的一个面且包含铁磁性体的元件部的自旋元件中，在环境温度为20℃以上且低于50℃的情况下，沿所述通电部的所述第一方向，设置施加的脉冲电流的脉宽的10倍以上的等待时间而施加108次以上电流密度为1.0×107A/cm2以上且1.0×109A/cm2以下且脉宽为1nsec以上且100nsec以下的所述脉冲电流。
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