[实用新型]氧化炉管

摘要

本实用新型提供一种应用于半导体工艺的氧化炉管，其包括：管体、延伸至管体中的喷淋管和氮气管以及安装于管体中的挡板；喷淋管的一端延伸至管体中，喷淋管位于管体中的部分开设有多个与管体内部相连通的喷淋孔，多个喷淋孔沿喷淋管的延伸方向间隔排布，多个喷淋孔具有喷淋区域，喷淋区域覆盖管体中石英舟的放置区域，石英舟的放置区域与管体中的尾端由挡板所隔离，氮气管的一端连接至管体的端面上，并与管体内部相连通。本实用新型通过在管体内设置挡板，避免了水倒流回炉管中，有利于改善晶圆氧化的均匀度。此外，通过设置喷淋管，使得水蒸气以喷淋方式进入到管体中，提高了水蒸气的利用率，降低了管体中水汽的含量，有利于进一步减少冷凝水。

主权项

1.一种氧化炉管，其特征在于，所述氧化炉管包括：管体、延伸至所述管体中的喷淋管和氮气管以及安装于所述管体中的挡板；所述喷淋管的一端延伸至所述管体中，所述喷淋管位于所述管体中的部分开设有多个与所述管体内部相连通的喷淋孔，多个喷淋孔沿所述喷淋管的延伸方向间隔排布，多个喷淋孔具有喷淋区域，所述喷淋区域覆盖所述管体中石英舟的放置区域，所述石英舟的放置区域与所述管体中的尾端由所述挡板所隔离，所述氮气管的一端连接至所述管体的端面上，并与所述管体内部相连通。