[实用新型]氧化炉管有效
| 申请号: | 201822217689.X | 申请日: | 2018-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN209056471U | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
| 发明(设计)人: | 刘恒;李根;黄永发;谭少阳;龚来俊;王俊 | 申请(专利权)人: | 苏州长光华芯光电技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人: | 杨淑霞 |
| 地址: | 215163 江苏省苏州市高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 管体 喷淋管 挡板 喷淋孔 水蒸气 本实用新型 放置区域 管体内部 喷淋区域 氧化炉管 氮气管 石英舟 延伸 半导体工艺 方向间隔 一端连接 水汽 均匀度 冷凝水 回炉 晶圆 排布 喷淋 隔离 体内 覆盖 应用 | ||
1.一种氧化炉管,其特征在于,所述氧化炉管包括:管体、延伸至所述管体中的喷淋管和氮气管以及安装于所述管体中的挡板;
所述喷淋管的一端延伸至所述管体中,所述喷淋管位于所述管体中的部分开设有多个与所述管体内部相连通的喷淋孔,多个喷淋孔沿所述喷淋管的延伸方向间隔排布,多个喷淋孔具有喷淋区域,所述喷淋区域覆盖所述管体中石英舟的放置区域,所述石英舟的放置区域与所述管体中的尾端由所述挡板所隔离,所述氮气管的一端连接至所述管体的端面上,并与所述管体内部相连通。
2.根据权利要求1所述的氧化炉管,其特征在于,多个喷淋孔以阵列方式开设于所述喷淋管的表面上。
3.根据权利要求2所述的氧化炉管,其特征在于,任一排喷淋孔中具有第一尺寸的喷淋孔和第二尺寸的喷淋孔,所述第一尺寸大于第二尺寸,任一第一尺寸的喷淋孔的两侧设置有所述第二尺寸的喷淋孔。
4.根据权利要求3所述的氧化炉管,其特征在于,所述第一尺寸为2mm,第二尺寸为1.5mm。
5.根据权利要求1所述的氧化炉管,其特征在于,所述挡板与所述管体的内侧壁相垂直,且所述挡板与所述管体一体成型。
6.根据权利要求1所述的氧化炉管,其特征在于,所述氧化炉管还包括测温管,所述测温管的一端延伸至所述管体中的石英舟的放置区域。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





