[实用新型]一种物理气相沉积设备有效
| 申请号： | 201822155633.6 | 申请日： | 2018-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN209798087U | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 刘雅丽 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜技术领域，提供一种物理气相沉积PVD设备，以解决通过现有的PVD设备镀膜的膜厚无法均匀分布的问题。该设备包括壳体，所述壳体内设有空腔，所述空腔内设有靶材；与所述空腔连通的至少一进气管，所述至少一进气管的位于所述空腔内的部分设有朝向所述靶材的多个出气孔。这样使得进入壳体内的气体为均匀混合气体，进而使得PVD设备镀膜的膜厚均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 进气管 靶材 镀膜 空腔 体内 物理气相沉积 本实用新型 镀膜技术 空腔连通 膜厚均匀 出气孔 壳体 膜厚 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积设备，其特征在于，包括：/n壳体，所述壳体内设有空腔，所述空腔内设有靶材；/n与所述空腔连通的至少一进气管，所述至少一进气管的位于所述空腔内的部分设有朝向所述靶材的多个出气孔。/n
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