[实用新型]一种蒸镀设备有效
| 申请号： | 201822058792.4 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN209522899U | 公开（公告）日： | 2019-10-22 |
| 发明（设计）人： | 丁熙荣 | 申请（专利权）人： | 合肥欣奕华智能机器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 230013 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种蒸镀设备，通过在蒸镀腔室中增加光调节结构，在图像采集结构中的光源向蒸镀腔室发射光线时，光调节结构可以改变光线的传播方向，使得光线可以照射到掩模版的对位标识所在区域，如此，就可以观察到掩模版的对位标识与待蒸镀基板的对位标识是否对位准确，从而在待蒸镀基板为非透明基板时依然可以实现掩模版与待蒸镀基板的对位，有利于提高镀膜工艺的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 对位标识 蒸镀基板 掩模版 蒸镀腔室 蒸镀设备 光调节 对位 本实用新型 传播方向 镀膜工艺 发射光线 所在区域 图像采集 非透明 基板 光源 照射 观察 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀设备，包括蒸镀腔室、以及位于所述蒸镀腔室外部的图像采集结构；所述图像采集结构包括用于向所述蒸镀腔室发射光线的光源、以及图像接收单元；其特征在于，所述蒸镀设备还包括：位于所述蒸镀腔室内部且可移动的光调节结构；所述光调节结构，靠近掩模版远离待蒸镀基板的一侧表面设置，用于调节所述光源发射出的光线的传播方向以照射至所述掩模版的对位标识所在区域，以及调节从所述掩模版的对位标识所在区域反射出的光线的传播方向以入射至所述图像接收单元；其中，所述待蒸镀基板为非透明基板。
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