[实用新型]一种蒸镀设备

说明书

本实用新型公开了一种蒸镀设备，通过在蒸镀腔室中增加光调节结构，在图像采集结构中的光源向蒸镀腔室发射光线时，光调节结构可以改变光线的传播方向，使得光线可以照射到掩模版的对位标识所在区域，如此，就可以观察到掩模版的对位标识与待蒸镀基板的对位标识是否对位准确，从而在待蒸镀基板为非透明基板时依然可以实现掩模版与待蒸镀基板的对位，有利于提高镀膜工艺的精确度。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备。

背景技术

在制作半导体以及有机发光装置时，镀膜工艺是非常重要的，目前常用的镀膜方法包括热蒸发、磁控溅射、以及化学气相沉积等，其中，热蒸发多用于制作有机发光显示装置中的有机发光层。

在实际的操作中，为了能够在待蒸镀基板上制作图案，在蒸镀过程往往使用掩模版，即掩模版遮挡的地方不会成膜，掩模版未遮挡的地方则会成膜，从而形成所需图案。其中，掩模版与待蒸镀基板的对位是否准确，严重影响着制作的图案是否满足要求。并且，在待蒸镀基板为非透明基板时，在确定掩模版与待蒸镀基板之间是否对位准确方面，存在着较大的困难。

那么，如何确定掩模版与非透明待蒸镀基板之间的对位是否准确，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种蒸镀设备，用以实现掩模版与非透明待蒸镀基板之间的对位。

本实用新型实施例提供了一种蒸镀设备，包括蒸镀腔室、以及位于所述蒸镀腔室外部的图像采集结构；所述图像采集结构包括用于向所述蒸镀腔室发射光线的光源、以及图像接收单元；所述蒸镀设备还包括：位于所述蒸镀腔室内部且可移动的光调节结构；

所述光调节结构，靠近掩模版远离待蒸镀基板的一侧表面设置，用于调节所述光源发射出的光线的传播方向以照射至所述掩模版的对位标识所在区域，以及调节从所述掩模版的对位标识所在区域反射出的光线的传播方向以入射至所述图像接收单元；

其中，所述待蒸镀基板为非透明基板。

如此，通过光调节结构可以改变光线的传播方向，使得光线可以照射到掩模版的对位标识所在区域，如此，就可以观察到掩模版的对位标识与待蒸镀基板的对位标识是否对位准确，从而在待蒸镀基板为非透明基板时依然可以实现掩模版与待蒸镀基板的对位，有利于提高镀膜工艺的精确度。

可选地，所述光调节结构包括至少一个棱镜；

或，所述光调节结构包括至少一个平面镜。

如此，可以通过简单的结构，即可实现光调节结构的功能，在提高对位精确度的同时，还有利于降低制作成本。

可选地，所述光调节结构设置有多个；

所述图像采集结构设置有至少一个。

如此，可以根据实际需要设置光调节结构，以及图像采集结构的数量，大大提高了设计的灵活性。

可选地，所述图像采集结构设置有多个；

所述图像采集结构与所述光调节结构的设置数量相等。

可选地，所述图像采集结构与所述光调节结构的设置数量均为2至6个。

可选地，所述图像采集结构设置有一个；

所述图像采集结构可移动。

可选地，所述蒸镀设备还包括蒸发源，所述光调节结构位于所述掩模版与所述蒸发源之间；

所述光调节结构包括保护壳，所述保护壳设置在所述光调节结构靠近所述蒸发源的一侧。

如此，有利于对光调节结构进行保护，避免污染。