[实用新型]石墨舟有效
| 申请号： | 201822057004.X | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN208923068U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 李兵;陈瑶;陈海燕;刘运宇 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 孙凤 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种石墨舟，用于管式PECVD镀膜，石墨舟包括至少两个沿第一方向间隔设置的石墨舟片组，每一石墨舟片组包括多个沿第二方向间隔设置且沿上下方向延伸的石墨舟片，第一方向与第二方向相垂直，相邻的石墨舟片组中的石墨舟片一一对应；沿第一方向相邻的两个石墨舟片上相对的一侧设有用以固定硅片的固定件；位于石墨舟内的硅片的正面以及背面均无遮挡，在镀膜时，等离子体可分别沉积在硅片的正面以及背面，实现硅片的正面及背面同时镀膜，降低了镀膜时间，能够提高产能，同时，相较于现有的石墨舟，本实用新型中的石墨舟对硅片镀膜时，不需要进行翻片处理，可以有效减少多次插硅片对硅片的边缘造成的擦伤。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨舟片 石墨舟 硅片 镀膜 背面 本实用新型 方向间隔 等离子体 管式PECVD镀膜 上下方向延伸 固定硅片 硅片镀膜 有效减少 擦伤 固定件 无遮挡 产能 翻片 沉积 垂直 | ||
【主权项】：
1.一种石墨舟，用于管式PECVD镀膜，其特征在于：所述石墨舟包括至少两个沿第一方向间隔设置的石墨舟片组，每一所述石墨舟片组包括多个沿第二方向间隔设置且沿上下方向延伸的石墨舟片，所述第一方向与所述第二方向相垂直，相邻的石墨舟片组中的石墨舟片一一对应；沿所述第一方向相邻的两个所述石墨舟片上相对的一侧设有用以固定硅片的固定件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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