[实用新型]石墨舟

说明书

本实用新型提供一种石墨舟，用于管式PECVD镀膜，石墨舟包括至少两个沿第一方向间隔设置的石墨舟片组，每一石墨舟片组包括多个沿第二方向间隔设置且沿上下方向延伸的石墨舟片，第一方向与第二方向相垂直，相邻的石墨舟片组中的石墨舟片一一对应；沿第一方向相邻的两个石墨舟片上相对的一侧设有用以固定硅片的固定件；位于石墨舟内的硅片的正面以及背面均无遮挡，在镀膜时，等离子体可分别沉积在硅片的正面以及背面，实现硅片的正面及背面同时镀膜，降低了镀膜时间，能够提高产能，同时，相较于现有的石墨舟，本实用新型中的石墨舟对硅片镀膜时，不需要进行翻片处理，可以有效减少多次插硅片对硅片的边缘造成的擦伤。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池镀膜领域，尤其涉及一种能够对硅片的正背面同时镀膜的石墨舟。

背景技术

目前，由于硅在地壳中有着极其丰富的储量，同时晶体硅太阳能电池相比其他的太阳能电池有着优异的电学性能和机械性能，因此，晶体硅太阳能电池在光伏领域占据着重要的地位。

PERC双面太阳能电池的制造需要经过如下8道工序：制绒、扩散、刻蚀、背钝化、正背面镀膜、丝网印刷、烧结、退火。其中，正背面镀膜工序是采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)的方法在硅片表面沉积氮化硅膜，以减少太阳光反射以及对硅片表面起钝化作用。

管式PECVD相对于板式PECVD，膜层结构的设计窗口大，正面减反射和背面增反射膜效果更优，且管式PEVCD有更好的钝化效果，逐渐成为技术热点。

在对硅片表面镀膜时，需要将未镀膜的硅片插入PECVD真空镀膜设备的石墨舟上，一般是先镀正面或者背面，镀完单面后再通过自动上下料机将硅片从石墨舟中取出后翻面再镀另一面，正背面分开镀膜导致生产周期过长，生产成本较高；同时，受管式PECVD本身结构的限制，两次镀膜需要经过四次装卸，即，所述硅片表面需要与石墨舟接触四次，使得硅片表面易出现擦伤划痕，且现有的石墨舟一般采用3个固定卡点卡住硅片的三条边，以固定硅片，机器插片时，硅片易与石墨舟片之间发生摩擦，导致硅片划伤，影响电池质量。

有鉴于此，有必要提供一种新的石墨舟以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够对硅片的正背面同时镀膜的石墨舟。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：一种石墨舟，用于管式PECVD镀膜，所述石墨舟包括至少两个沿第一方向间隔设置的石墨舟片组，每一所述石墨舟片组包括多个沿第二方向间隔设置且沿上下方向延伸的石墨舟片，所述第一方向与所述第二方向相垂直，相邻的石墨舟片组中的石墨舟片一一对应；沿所述第一方向相邻的两个所述石墨舟片上相对的一侧设有用以固定硅片的固定件。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，每一所述石墨舟片组上相邻的石墨舟片连接不同的电极。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，每一所述石墨舟片组还包括沿所述第二方向延伸的固定杆，该石墨舟片组上的石墨舟片活动连接于所述固定杆上以沿所述固定杆移动。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，沿所述第一方向相邻的两个石墨舟片组之间的距离为157mm-165mm。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，每一所述石墨舟片组中的相邻的石墨舟片之间的距离为5mm-20mm。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述固定件为沿上下方向间隔设置的上卡槽以及下卡槽。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述上卡槽包括沿所述第二方向间隔设置的两个上卡片，两个所述上卡片之间的距离为0.2mm-0.4mm。

作为本实用新型进一步改进的技术方案，所述下卡槽包括沿所述第二方向间隔设置的两个下卡片以及连接两个所述下卡片的下端的连接片。