[实用新型]常压式化学气相沉积机底板刻蚀装置

摘要

本实用新型涉及一种常压式化学气相沉积机底板刻蚀装置。它包括用于放置晶圆的底板，底板之上有下盖，下盖的口部朝下且呈密封状罩在底板的边沿上。下盖的盖顶上有进、出口，所述进、出口分别位于邻近下盖一对相对边的盖顶上。其特点是:下盖之上有上盖，上盖的口部四周呈紧密状压在下盖的盖顶边沿上。上盖的盖顶上有第一、第二孔，第一孔内有进液管，进液管下端与所述进口相连，进液管上端有盛装氢氟酸的容器，所述容器通过开关与进液管连通。第二孔内有排气管，排气管下端与出口相连，排气管上端穿过第二孔后伸出在上盖之外并连有抽风机。采用本实用新型，可提高生产效率，降低生产成本。可用来除去底板上的二氧化硅膜。

主权项

1.常压式化学气相沉积机底板刻蚀装置，包括用于放置晶圆的底板，底板之上有下盖，下盖的口部朝下且呈密封状罩在底板的边沿上，由底板和下盖构成容纳氢氟酸的腔体；下盖的盖顶上有进口和出口，所述进口和出口分别位于邻近下盖一对相对边的盖顶上；其特征在于:下盖之上有上盖，上盖的口部四周呈紧密状压在下盖的盖顶边沿上；所述上盖的盖顶上有第一孔和第二孔，第一孔内有进液管，进液管下端与所述进口相连，进液管上端有盛装氢氟酸的容器，所述容器通过开关与进液管连通；第二孔内有排气管，排气管下端与出口相连，排气管上端穿过第二孔后伸出在上盖之外并连有抽风机。