[实用新型]三五族场效晶体管有效

专利信息
申请号: 201821955539.2 申请日: 2018-11-26
公开(公告)号: CN209199935U 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 吴俊鹏;大藤彻;谢明达 申请(专利权)人: 捷苙科技股份有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 董科
地址: 中国台湾苗粟*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种三五族场效晶体管,包括衬底、设置于衬底上的主动层、设置于主动层上的介电层、及设置于介电层上的T型栅极层。介电层的介电常数为3.5~5.5之间。介电层具有第一部位与第二部位,第一部位与第二部位之间形成接触窗,接触窗用于暴露部份的主动层。T型栅极层通过接触窗与部份的主动层接触。
搜索关键词: 介电层 主动层 接触窗 场效晶体管 衬底 介电常数 暴露
【主权项】:
1.一种三五族场效晶体管,其特征在于,包括:衬底;主动层,设置于所述衬底上;介电层,设置于所述主动层上,具有第一部位与第二部位,所述第一部位与所述第二部位之间形成接触窗,所述接触窗用于暴露部份的所述主动层;以及T型栅极层,设置于所述介电层上,且所述T型栅极层通过所述接触窗与所述部份的主动层接触;其中,所述介电层的介电常数为3.5~5.5之间。
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