[实用新型]三五族场效晶体管有效
申请号: | 201821955539.2 | 申请日: | 2018-11-26 |
公开(公告)号: | CN209199935U | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 吴俊鹏;大藤彻;谢明达 | 申请(专利权)人: | 捷苙科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/423 | 分类号: | H01L29/423;H01L29/78 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 董科 |
地址: | 中国台湾苗粟*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种三五族场效晶体管,包括衬底、设置于衬底上的主动层、设置于主动层上的介电层、及设置于介电层上的T型栅极层。介电层的介电常数为3.5~5.5之间。介电层具有第一部位与第二部位,第一部位与第二部位之间形成接触窗,接触窗用于暴露部份的主动层。T型栅极层通过接触窗与部份的主动层接触。 | ||
搜索关键词: | 介电层 主动层 接触窗 场效晶体管 衬底 介电常数 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种三五族场效晶体管,其特征在于,包括:衬底;主动层,设置于所述衬底上;介电层,设置于所述主动层上,具有第一部位与第二部位,所述第一部位与所述第二部位之间形成接触窗,所述接触窗用于暴露部份的所述主动层;以及T型栅极层,设置于所述介电层上,且所述T型栅极层通过所述接触窗与所述部份的主动层接触;其中,所述介电层的介电常数为3.5~5.5之间。
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